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集成电路的设计的主流是()

  • A、SOC(片上系统)
  • B、分立器件
  • C、电路结构简化
  • D、手工设计

参考答案

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考题 目前集成电路中的主流产品采用CMOS工艺,请问CMOS的汉语全称是什么?

考题 根据集成电路布图设计保护条例的规定,下列哪些说法是正确的?A.受保护的集成电路布图设计应当具有独创性B.受保护的集成电路布图设计应当具有美感C.对集成电路布图设计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念D.国务院知识产权行政部门负责布图设计专有权的管理工作

考题 集成电路制造技术是嵌入式系统发展的重要基础,下面关于集成电路技术发展的叙述中,错误的是:()。A.单块集成电路的集成度平均每18~24个月翻一番B.集成电路的工作频率越来越高,功耗越来越低C.当前集成电路批量生产的主流技术已经达到45nm、32nm甚至更小的工艺水平D.集成电路批量生产使用的晶圆直径已经达到12~14英寸甚至更大

考题 以下关于集成电路布图设计的说法错误的有( ) A.集成电路布图设计的主体是指依法对集成电路布图设计享有专有权的自然人法人或其他组织。 B.客体是集成电路而不是布图设计。 C.受保护的集成电路布图设计应该具有独创性。 D.受保护的集成电路布图设计不能是显而易见的

考题 集成电路布图设计专有权的行使包括? A.集成电路布图设计专有权的转让 B.集成电路布图设计专有权的许可 C.集成电路布图设计专有权的合理利用 D.集成电路布图设计专有权的反向工程

考题 有关集成电路布图设计下列说法错误的是( ) A.集成电路布图设计又称工艺技术 B.集成电路布图设计又称掩模作品 C.集成电路布图设计是附着与各种载体上的电子元件和连接这些电子元件的连线的有关布局设计。 D.集成电路布图设计又称拓扑图

考题 根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,下列说法正确的是()。 A.受保护的集成电路布图设计应当具有独创性 B.集成电路布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生 C.对集成电路布图没计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等 D.集成电路布图设计专有权的保护期为十五年 E.布图设计权利人在许可他人使用其布图设计时,当事人之间应当订立书面的许可使用合同

考题 根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,下列哪些说法是正确的?()A、受保护的集成电路布图设计应当是创作者自己的智力劳动成果,并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计B、受保护的集成电路布图设计应当富有美感C、对集成电路布图设计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等D、集成电路布图设计专有权自创作完成之日起产生

考题 集成电路布图设计

考题 我国保护集成电路布图设计的法律法规是()。

考题 我国保护集成电路布图设计的法律法规是()。A、《集成电路布图设计保护条例》B、《集成电路布图设计保护法》C、《专利法》

考题 线宽是集成电路芯片制造中重要的技术指标,目前芯片制造的主流技术中线宽为()。A、几个微米B、几个纳米C、50纳米左右D、100纳米左右

考题 填空题现代主流的集成电路加工技术为CMOS工艺,即最基本的器件是由()和NMOS组成。

考题 单选题在《知识产权协定》规定的集成电路布图设计中,不违法的是 ( )A 为商业目的进口布图设计B 销售受保护的布图设计C 在没有理由知道的情况下分售含有受保护布图设计的集成电路D 销售含有受保护的布图设计的集成电路的物品

考题 单选题集成电路的设计的主流是()A SOC(片上系统)B 分立器件C 电路结构简化D 手工设计

考题 单选题在集成电路加工制造中,通常所指前道工艺为()A 集成电路制造(晶圆加工)B 集成电路封装C 集成电路测试D 集成电路设计

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考题 填空题集成电路制造与集成电路设计相关纽带是()

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考题 单选题我国保护集成电路布图设计的法律法规是()。A 《集成电路布图设计保护条例》B 《集成电路布图设计保护法》C 《专利法》

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考题 多选题根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,申请人以书面形式申请集成电路布图设计登记的,应当提交下列哪些文件或者物品?()A集成电路布图设计登记申请表B集成电路布图设计的说明书和权利要求书C集成电路布图设计的复制件或者图样D集成电路布图设计已投入商业利用的,提交含有该布图设计的集成电路样品

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