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根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,下列哪些说法是正确的?()

  • A、受保护的集成电路布图设计应当是创作者自己的智力劳动成果,并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计
  • B、受保护的集成电路布图设计应当富有美感
  • C、对集成电路布图设计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等
  • D、集成电路布图设计专有权自创作完成之日起产生

参考答案

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考题 依据我国《集成电路布图设计保护条例》和《集成电路知识产权条约》的规定,下列表述中正确的是()A.外国人在中国境内创作的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。B.外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的,依照本条例享有布图设计专有权。C.外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家领土内首先投入商业利用的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。D.外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家境内创作的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。

考题 依据我国《集成电路布图设计保护条例》的规定,下列表述中不正确的表述是:()A.外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的,依照本条例享有布图设计专有权B.外国人在中国境内创作的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。C.外国人创作的布图设计,其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的,依照本条例享有布图设计专有权。D.中国自然人、法人或者其他组织在境外创作的布图设计,可以依照本条例享有布图设计专有权。

考题 关于布图设计权产生的形式条件,通常包括()。A.该布图设计必须投入商业实施B.受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中C.布图设计应具有独创性D.受保护的布图设计必须办理登记手续

考题 外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的,依照《集成电路布图设计保护条例》享有布图设计专有权。( )

考题 无论是否登记或者投入商业利用,布图设计自创作完成之日起15年后,不再受《集成电路布图设计条例》保护。( )

考题 根据集成电路布图设计保护条例的规定,下列哪些说法是正确的?A.受保护的集成电路布图设计应当具有独创性B.受保护的集成电路布图设计应当具有美感C.对集成电路布图设计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念D.国务院知识产权行政部门负责布图设计专有权的管理工作

考题 根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,下列说法哪些是正确的?( )A、布图设计专有权经国家知识产权局登记产生B、布图设计专有权自创作完成之日起自动产生C、布图设计专有权的保护期为15年,自布图设计登记申请之日起计算,D、布图设计专有权的保护期为15年,自布图设计创作完成之日起计算

考题 根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,下列说法正确的是()。 A.受保护的集成电路布图设计应当具有独创性 B.集成电路布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生 C.对集成电路布图没计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等 D.集成电路布图设计专有权的保护期为十五年 E.布图设计权利人在许可他人使用其布图设计时,当事人之间应当订立书面的许可使用合同

考题 以下关于集成电路布图设计的说法错误的有( ) A.集成电路布图设计的主体是指依法对集成电路布图设计享有专有权的自然人法人或其他组织。 B.客体是集成电路而不是布图设计。 C.受保护的集成电路布图设计应该具有独创性。 D.受保护的集成电路布图设计不能是显而易见的

考题 集成电路布图设计专有权的行使包括? A.集成电路布图设计专有权的转让 B.集成电路布图设计专有权的许可 C.集成电路布图设计专有权的合理利用 D.集成电路布图设计专有权的反向工程

考题 根据《集成电路布图设计保护条例》的规定,下列哪种行为须经布图设计专有权人的许可()。A、甲单纯为评价、分析目的而复制受保护的布图设计B、乙对受保护的布图设计中某些具有独创性的部分进行复制C、丙将布图设计专有权人投放市场的含有受保护布图设计的集成电路再次进行商业利用D、丁将自己独立创作的与受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用

考题 根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,集成电路布图设计权利人享有下列哪些专有权?()A、对受保护的布图设计的全部进行复制B、对受保护的布图设计中的任何具有独创性的部分进行复制C、将受保护的布图设计投入商业利用D、将含有受保护的布图设计的集成电路投入商业利用

考题 根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,布图设计权利人享有下列哪些专有权?()A、将受保护的布图设计投入商业利用B、将含有受保护布图设计的集成电路以及含有该集成电路的物品投入商业利用C、对受保护的布图设计的全部进行复制D、对受保护的布图设计的任何具有独创性的部分进行复制

考题 根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,下列哪些行为可以不经布图设计权利人许可,不向其支付报酬?()A、为个人目的而复制受保护的布图设计B、为研究目的而复制受保护的布图设计C、在评价、分析受保护的布图设计的基础上,创作出具有独创性的布图设计D、对自己独立创作的与他人相同的布图设计投入商业利用

考题 根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,申请人以书面形式申请集成电路布图设计登记的,应当提交下列哪些文件或者物品?()A、集成电路布图设计登记申请表B、集成电路布图设计的说明书和权利要求书C、集成电路布图设计的复制件或者图样D、集成电路布图设计已投入商业利用的,提交含有该布图设计的集成电路样品

考题 依据我国《集成电路布图设计保护条例》的规定,下列表述中不正确的表述是:()A、外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的,依照本条例享有布图设计专有权B、外国人在中国境内创作的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。C、外国人创作的布图设计,其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的,依照本条例享有布图设计专有权。D、中国自然人、法人或者其他组织在境外创作的布图设计,可以依照本条例享有布图设计专有权。

考题 我国保护集成电路布图设计的法律法规是()。A、《集成电路布图设计保护条例》B、《集成电路布图设计保护法》C、《专利法》

考题 依据我国《集成电路布图设计保护条例》,下列表述正确的有()A、布图设计专有权的取得方式是登记B、布图设计专有权的保护期为10年,自授权公告之日起算C、对布图设计专有权可以适用强制许可D、对受保护的布图设计进行反向工程不构成侵权E、布图设计专有权的转让自书面合同签订之日起生效

考题 关于布图设计权产生的形式条件,通常包括()。A、该布图设计必须投入商业实施B、受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中C、布图设计应具有独创性D、受保护的布图设计必须办理登记手续

考题 关于布图设计权产生的形式条件,通常不包括()A、该布图设计必须由个人对立创造B、该布图设计必须投入商业实施C、受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中D、受保护的布图设计必须办理登记手续

考题 单选题根据《集成电路布图设计保护条例》的规定,下列哪种行为须经布图设计专有权人的许可()。A 甲单纯为评价、分析目的而复制受保护的布图设计B 乙对受保护的布图设计中某些具有独创性的部分进行复制C 丙将布图设计专有权人投放市场的含有受保护布图设计的集成电路再次进行商业利用D 丁将自己独立创作的与受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用

考题 单选题在《知识产权协定》规定的集成电路布图设计中,不违法的是 ( )A 为商业目的进口布图设计B 销售受保护的布图设计C 在没有理由知道的情况下分售含有受保护布图设计的集成电路D 销售含有受保护的布图设计的集成电路的物品

考题 多选题根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,下列哪些行为可以不经布图设计权利人许可,不向其支付报酬?()A为个人目的而复制受保护的布图设计B为研究目的而复制受保护的布图设计C在评价、分析受保护的布图设计的基础上,创作出具有独创性的布图设计D对自己独立创作的与他人相同的布图设计投入商业利用

考题 多选题根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,集成电路布图设计权利人享有下列哪些专有权?()A对受保护的布图设计的全部进行复制B对受保护的布图设计中的任何具有独创性的部分进行复制C将受保护的布图设计投入商业利用D将含有受保护的布图设计的集成电路投入商业利用

考题 单选题我国保护集成电路布图设计的法律法规是()。A 《集成电路布图设计保护条例》B 《集成电路布图设计保护法》C 《专利法》

考题 多选题根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,集成电路布图设计权利人甲公司可以要求行为人停止下列哪些未经其许可的行为?()A某大学教授赵某为教学目的而复制甲公司受保护的布图设计B乙公司将自己独立创作的与甲公司受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用C丙公司为商业目的复制甲公司受保护的布图设计中具有独创性的部分D丁公司为商业目的销售含有甲公司受保护的布图设计的集成电路

考题 多选题根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,下列说法哪些是正确的?()A除集成电路布图设计保护条例另有规定外,布图设计专有权属于布图设计创作者B由法人主持,依据法人的意志而创作,并由法人承担责任的布图设计,该法人是创作者C受委托创作的布图设计,委托人和受托人对专有权的归属未作约定或者约定不明的,其专有权由委托人享有D两个以上自然人、法人或者其他组织合作创作的布图设计,合作者对专有权的归属未作约定或者约定不明的,其专有权由合作者共同享有

考题 多选题根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,下列哪些说法是正确的?()A受保护的集成电路布图设计应当是创作者自己的智力劳动成果,并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计B受保护的集成电路布图设计应当富有美感C对集成电路布图设计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等D集成电路布图设计专有权自创作完成之日起产生