网友您好， 请在下方输入框内输入要搜索的题目：
题目内容
（请给出正确答案）
关于布图设计权产生的形式条件，通常包括（）。
A.该布图设计必须投入商业实施
B.受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中
C.布图设计应具有独创性
D.受保护的布图设计必须办理登记手续
参考答案
更多 “ 关于布图设计权产生的形式条件，通常包括（）。A.该布图设计必须投入商业实施B.受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中C.布图设计应具有独创性D.受保护的布图设计必须办理登记手续 ” 相关考题
考题
根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，下列说法哪些是正确的?( )A、布图设计专有权经国家知识产权局登记产生B、布图设计专有权自创作完成之日起自动产生C、布图设计专有权的保护期为15年，自布图设计登记申请之日起计算，D、布图设计专有权的保护期为15年，自布图设计创作完成之日起计算
考题
以下符合受保护的布图设计专有权的保护条件的有（ ）
A.布图设计自创完成之日起15年内。
B.未经布图设计权利人许可复制独创性部分。
C.未经 布图设计权利人许可以商业目的限售布图设计。
D.自布图设计登记申请日起算10年内。
考题
90、在我国，布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生，未经登记的布图设计不受《集成电路布图设计保护条例》保护。
热门标签
最新试卷
