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单选题
在真空炉内烧结而成的PFM修复体的原材料是（）
A
高熔瓷粉与镍铬合金
B
中熔瓷粉与烤瓷合金
C
低熔瓷粉与中熔合金
D
低熔瓷粉与烤瓷合金
E
低熔瓷粉与金合全
参考答案
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解析：
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考题
患者，男，45岁， 近中邻面龋，经牙体治疗后需要做PFM冠修复，PFM冠瓷层烧烤时的最好升温速度是A、40～45℃/minB、45～50℃/minC、50～55℃/minD、55～60℃/minE、60～65℃/min
考题
PFM基底冠在预氧化处理中不正确的是A．非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜B．贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜C．巴非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜D．非贵金属预氧化烧结的温度与OP层烧结的温度相同E．理想的氧化膜厚度为0.2～2μm
考题
某技师将瓷层已堆筑完成的PFM冠送入烤瓷炉中进行烧结，程序完成后发现冠表面所有体瓷全部爆裂，其原因可能是（）。A、干燥、预热时间太长，瓷粉失水B、未干燥、预热直接升温C、烤瓷炉真空度过高D、烧结温度过高E、升温速率过低
考题
患者右下7近中面龋坏，去尽腐质未及髓，牙髓活力测试反应正常，临床牙冠较短。若患牙腭尖崩折，缺损齐龈，颊侧牙体组织完整，患者不接受暴露金属，则可行的修复方案是（）A、单纯PFM全冠修复B、铸造金属基底桩冠C、铸造金属桩核+PFM全冠修复D、预成树脂桩+树脂核+树脂冠E、以上都不是
考题
金瓷结合界面处理恰当与否关系到金瓷结合强度，因此严格进行正确的处理才能保证PFM冠的质量PFM基底冠在预氧化处理中不正确的是（）。A、非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜B、贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜C、非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜D、非贵金属预氧化烧结的温度与0P层烧结的温度相同E、理想的氧化膜厚度为0.2～2μm
考题
患者，男，40岁。戴用下颌磨牙修复体一年余，近来出现对冷热刺激敏感，并有自发痛而就诊。查PFM全冠修复体，叩痛(±)，触点及边缘良好。
该病例出现自发性疼痛的原因可能是（）A、检查咬合B、拆除修复体C、X线牙片检查D、冠边缘贴合情况E、温度测试与牙髓治疗
考题
30岁女性患者，右上4残冠，已行根管治疗。若患牙腭尖崩折，缺损齐龈，颊侧牙体组织完整，患者不接受暴露金属，则可行的修复方案是（）.A、单纯PFM全冠修复B、铸造金属基底桩冠C、铸造金属桩核+PFM全冠修复D、预成树脂桩+树脂核+树脂冠E、以上都不是
考题
单选题若患牙腭尖崩折，缺损齐龈，颊侧牙体组织完整，患者不接受暴露金属，则可行下列哪项修复方案?（ ）A
单纯PFM全冠修复B
铸造金属基底桩冠C
铸造金属桩核+PFM全冠修复D
预成树脂桩+树脂核+树脂冠E
以上都不是
考题
单选题PFM冠上釉时的炉温是（ ）。A
与体瓷的烧结温度相同B
低于体瓷烧结温度6～8℃C
低于体瓷烧结温度10～20°CD
高于体瓷烧结温度6～8℃E
高于体瓷烧结温度10～20℃
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