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在配位滴定中,对配位掩蔽剂的要求有()。

  • A、干扰离子形成的配合物应是无色或浅色的
  • B、干扰离子与掩蔽剂形成的配合物应比与EDTA形成的配合物稳定性小
  • C、掩蔽剂应不与被测离子配位,或其配合物的稳定性远小于EDTA与被测离子所形成配合物的稳定性
  • D、滴定要求的pH范围内,具有很强的掩蔽能力

参考答案

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考题 提高配位滴定的选择性可采用的方法是()A、增大滴定剂的浓度B、控制溶液温度C、控制溶液的酸度D、利用掩蔽剂消除干扰

考题 配位滴定中,使用氢化物作掩蔽剂时应注意先将溶液调节为碱性后再加入。() 此题为判断题(对,错)。

考题 氧化还原掩蔽剂是配位滴定中应用最多的掩蔽剂。() 此题为判断题(对,错)。

考题 配位滴定中的掩蔽方法,其中沉淀掩蔽法是最理想的方法。() 此题为判断题(对,错)。

考题 常用的配位掩蔽剂有( ).( ).( )。

考题 配位滴定中,使用氰化物作掩蔽剂时应注意先将溶液调节为碱性再加入。() 此题为判断题(对,错)。

考题 提高配位滴定选择性的常用方法有:控制溶液酸度和利用掩蔽的方法。此题为判断题(对,错)。

考题 在EDTA配位滴定中,下列有关掩蔽剂的叙述中正确的是()。A、配位掩蔽剂必须可溶且无色B、氧化还原掩蔽剂必须改变干扰离子的价态C、掩蔽剂的用量越多越好D、掩蔽剂最好是无毒的

考题 三乙醇胺作为配位滴定法掩蔽剂在()条件下加入。A、碱性B、酸性C、中性

考题 在配位滴定中指示剂的封闭可以通过()A、加入有机溶剂或加热B、加水C、增大体积来避免D、加掩蔽剂

考题 在配位滴定中掩蔽剂与干扰离子所形成的配合物的稳定性必须大于EDTA与干扰离子所形成的配合物的稳定性。

考题 下列关于配位滴定的说法()是正确的。A、最常用的配位剂是EDTAB、滴定速度快,配比简单,EDTA配位性能广泛C、溶液酸度对滴定影响不大,可能不予考虑D、当不能直接滴定时,可采用加掩蔽剂,化学分离等方法解决

考题 提高配位滴定选择性的方法有控制溶液酸度和利用掩蔽剂()。

考题 配位滴定不能用()掩蔽。A、配合掩蔽法B、氧化还原掩蔽法C、物理掩蔽法D、沉淀掩蔽法

考题 用做配位滴定的配位剂分为()和()两类。

考题 简述配位返滴定的应用前提。(针对EDTA作配位剂)

考题 在配位滴定法中,控制反应条件包括()A、酸度B、利用掩蔽和解蔽C、选择合适的反应试剂D、温度

考题 控制一定的PH值,用EDTP滴定Zn2+、Mn2+、Mg2+、Cu2+混合试液中的Cu2+这种提高配位滴定选择性的方法属于()。A、利用选择性的解蔽剂B、配位掩蔽法C、氧化还原掩蔽法D、其他滴定剂的应用

考题 配位剂是用于配位滴定的试剂,配位剂可分为()和()两种。

考题 影响配位滴定突跃范围的因素包括()。A、滴定速度B、配合物稳定常数C、掩蔽剂的存在D、溶液的酸度

考题 配位滴定法中利用掩蔽剂掩蔽杂质离子的方法有()、()和()。

考题 在配位滴定中,溶液酸度的控制还要考虑()变色对酸度的要求。A、指示剂B、溶液C、离子D、分子

考题 配位滴定过程中,有哪几种加入掩蔽剂的方法来降低干扰离子的浓度?

考题 在配位滴定中,消除干扰离子的方法有()。A、掩蔽法B、预先分离法C、改用其它滴定剂法D、控制溶液酸度法

考题 多选题配位滴定中,消除共存离子干扰的方法有()。A控制溶液酸度B使用沉淀剂C使用配位掩蔽剂D使用解蔽剂E使用金属指示剂

考题 单选题配位滴定法中,铅铋混合物中Pb2+、Bi3+的含量测定一般采用()。A 控制酸度连续滴定B 利用配位掩蔽分别测定C 利用沉淀掩蔽分别测定D 利用氧化掩蔽分别测定

考题 多选题在配位滴定中,消除干扰离子的方法有()。A掩蔽法B预先分离法C改用其它滴定剂法D控制溶液酸度法