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配位滴定过程中，有哪几种加入掩蔽剂的方法来降低干扰离子的浓度？
参考答案
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考题
在EDTA滴定中,提高选择性的方法有()。
A、控制酸度，降低干扰离子与EDTA配离子的稳定性B、提高酸度，降低干扰离子的浓度C、配位掩蔽法降低干扰离子的浓度D、氧化还原掩蔽法降低干扰离子的浓度E、沉淀掩蔽法降低干扰离子的浓度
考题
在配位滴定中，对配位掩蔽剂的要求有（）。A、干扰离子形成的配合物应是无色或浅色的B、干扰离子与掩蔽剂形成的配合物应比与EDTA形成的配合物稳定性小C、掩蔽剂应不与被测离子配位，或其配合物的稳定性远小于EDTA与被测离子所形成配合物的稳定性D、滴定要求的pH范围内，具有很强的掩蔽能力
考题
配位滴定中，在使用掩蔽剂消除共存离子的干扰时，下列注意事项中说法不正确的是（）。A、掩蔽剂不与待测离子配合，或形成配合物的稳定常数远小于待测离子与EDTA配合物的稳定性B、干扰离子与掩蔽剂所形成的配合物的稳定性应比与EDTA形成的配合物更稳定C、在滴定待测离子所控制的酸度范围内应以离子形式存在，应具有较强的掩蔽能力D、掩蔽剂与干扰离子所形成的配合物应是无色或浅色的，不影响终点的判断
考题
用铬合滴定法测定水的硬度时，如果在滴定过程中发现滴定不到终点或指示剂加入后颜色呈灰紫色时，可能是（）等离子的干扰。遇此情况，可在加指示剂前，用2mL的（）进行联合掩蔽，或先加入（），即可消除干扰。
考题
单选题用指示剂（In），以EDTA（Y）滴定金属离子M时常加入掩蔽剂（X）消除某干扰离子（N）的影响。不符合掩蔽剂加入条件的是（）。A
KNX＜KNYB
KNX＞＞KNYC
KMX＜＜KMYD
KMIn＞KMX
考题
多选题在配位滴定中，消除干扰离子的方法有（）。A掩蔽法B预先分离法C改用其它滴定剂法D控制溶液酸度法
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