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单选题
杂质分布一般与原料药的（）有关。
A
所用原辅料
B
合成工艺和所用起始原料
C
精制工艺和所用起始原料
D
生产工艺和所用起始原料
参考答案
参考解析
解析：
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考题
药物制剂的检查中，下列说法正确的是( )A.应进行的杂质检查项目与原料药的检查项目相同B.还应进行制剂学方面(如片重差异、崩解时限等)的有关检查C.应进行的杂质检查项与辅料的检查项目相同D.不再进行杂质检查
考题
关于制剂分析与原料药分析，下列结果说法中不正确的是A．在制剂分析中，对所用原料药物所做的检查项目均需检查B．制剂中的杂质，主要来源于制剂中原料药物的化学变化和制剂的制备过程C．制剂分析增加了各制剂的常规检验法D．分析结果的表示方法不同于原料药的表示方法E．含量限度的要求与原料药不同，一般原料药分析方法的准确度要求更高
考题
药物制剂的检查中（）.A、杂质检查项目应与原料药的检查项目相同B、杂质检查项目应与辅料的检查项目相同C、杂质检查主要是检查制剂生产、贮存过程中引入或产生的杂质D、不再进行杂质检查E、除杂质检查外还应进行制剂学方面的有关检查
考题
原料药生产污染的控制要求有（）。A、同一中间产品或原料药的残留物带入后续数个批次中的，应当严格控制B、带入的残留物不得引入降解物或微生物污染，也不得对原料药的杂质分布产生不利影响C、生产操作应当能够防止中间产品或原料药被其它物料污染D、原料药精制后的操作，应当特别注意防止污染
考题
填空题扩散的目的是为了实现对半导体掺杂，杂质扩散的深度与（）有关，服从（）。杂质扩散通常分为等表面浓度扩散，也（），和固定杂质总量扩散，也称（）。预淀积的分布是（）函数，再分布扩散的杂质呈（）函数分布。
考题
多选题原料药生产污染的控制要求有（）。A同一中间产品或原料药的残留物带入后续数个批次中的，应当严格控制B带入的残留物不得引入降解物或微生物污染，也不得对原料药的杂质分布产生不利影响C生产操作应当能够防止中间产品或原料药被其它物料污染D原料药精制后的操作，应当特别注意防止污染
考题
多选题原料药质量标准对杂质的控制应当包括（）。A细菌内毒素B有机杂质C无机杂质D残留溶剂
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