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集成电路制造工艺员 问题列表
问题 树脂的外形为()的球状颗粒。A、淡黄色或褐色B、黑色或棕色C、淡红色或褐色D、淡蓝色或棕色

问题 常用的电容器有哪几种?它们的特点如何?

问题 电子束蒸发的设备中产生电子束的装置称为()。A、电子源B、电子泵C、电子管D、电子枪

问题 在半导体工艺中,与氮化硅比较,二氧化硅更适合应用在()。A、晶圆顶层的保护层B、多层金属的介质层C、多晶硅与金属之间的绝缘层D、掺杂阻挡层E、晶圆片上器件之间的隔离

问题 ESD产生()种不同的静电总类。A、1B、4C、3D、2

问题 已知电阻上色标排列次序如下,试写出各对应的电阻值及允许偏差:“橙白黄金”、“棕黑金金”、“绿蓝黑棕棕”、“灰红黑银棕”

问题 关于正胶和负胶在显影时的特点,下列说法正确的是()。A、负胶的感光区域溶解B、正胶的感光区域溶解C、负胶的感光区域不溶解D、正胶的感光区域不溶解E、负胶的非感光区域溶解

问题 溅镀法,因为其阶梯覆盖的能力不良,很容易造成因填缝不完全所留下的()。A、鸟嘴B、空洞C、裂痕D、位错

问题 工艺文件的电子文档化要注意哪些问题?怎样才能保证工艺文件的电子文档是安全可靠的?

问题 ()专指薄膜形成的过程中,并不消耗晶片或底材的材质。A、薄膜成长B、蒸发C、薄膜沉积D、溅射E、以上都正确

问题 试写出下列SMC元件的长和宽(毫米):1206、0805、0603、0402

问题 扩散工艺使杂质由半导体晶片表面向内部扩散,改变了晶片(),所以晶片才能被人们所使用。A、内部的杂质分布B、表面的杂质分布C、整个晶体的杂质分布D、内部的导电类型E、表面的导电类型

问题 离子从进入靶起到停止点所通过的总路程称作()。A、离子距离B、靶厚C、射程D、注入深度

问题 按加热源的不同,可以分成()几种不同类型的蒸发。A、真空蒸发B、离子束蒸发C、电子束蒸发D、粒子束蒸发E、常压蒸发

问题 请在下列选项中选出多晶硅化金属的英文简称:()。A、OxideB、NitrideC、SilicideD、Polycide