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题3-2-4 两步工艺分为预淀积(预扩散)、再分布(主扩散)两步。预淀积是惰性气氛下的 。
A.恒定源扩散
B.有限源扩散
C.间隙式扩散
D.替位式扩散
参考答案和解析
物理反应
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考题
填空题扩散的目的是为了实现对半导体掺杂,杂质扩散的深度与()有关,服从()。杂质扩散通常分为等表面浓度扩散,也(),和固定杂质总量扩散,也称()。预淀积的分布是()函数,再分布扩散的杂质呈()函数分布。
考题
判断题在硅中固态杂质的热扩散需要三个步骤:预淀积、推进和激活。A
对B
错
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