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二氧化硅膜的质量要求有（）。
- A、薄膜表面无斑点
- B、薄膜中的带电离子含量符合要求
- C、薄膜表面无针孔
- D、薄膜的厚度达到规定指标
- E、薄膜厚度均匀，结构致密
参考答案
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考题
刻蚀是把进行光刻前所沉积的薄膜厚度约在数千到数百A之间中没有被（）覆盖及保护的部分，以化学作用或是物理作用的方式加以去除，以完成转移掩膜图案到薄膜上面的目的。A、二氧化硅B、氮化硅C、光刻胶D、去离子水
考题
托盘薄膜缠绕机机开机工作后物品打包太松首先应检查的项目是（）A、托盘薄膜缠绕机机是否润滑B、托盘薄膜缠绕机机膜厚度C、托盘薄膜缠绕机机膜架上的涨紧压簧是否过松D、托盘薄膜缠绕机机送膜速度是否小于货物的旋转线速度
考题
密封储藏塑料薄膜外结露原因是：（），薄膜外空气达到露点时，将在薄膜外产生结露。A、薄膜外温度高，薄膜内温度高B、薄膜外温度低，薄膜内温度低C、薄膜外温度高，薄膜内温度低D、薄膜外温度低，薄膜内温度高
考题
与光合作用有关的色素和酶分别分布在叶绿体的（）。A、类囊体薄膜上.类囊体薄膜上和基质中B、内膜和类囊体薄膜上，类囊体薄膜和基质中C、内膜和类囊体薄膜上，基质中D、类囊体薄膜上，内膜和基质中
考题
单选题与光合作用有关的色素和酶分别分布在叶绿体的（）。A
类囊体薄膜上.类囊体薄膜上和基质中B
内膜和类囊体薄膜上，类囊体薄膜和基质中C
内膜和类囊体薄膜上，基质中D
类囊体薄膜上，内膜和基质中
考题
填空题塑料薄膜的种类有（）或聚乙烯薄膜、功能性聚氯乙烯薄膜、功能性聚乙烯薄膜、调光薄膜、和氟素膜。
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