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题目内容
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对于非晶靶,离子注入的射程分布取决于()。
- A、入射离子的能量
- B、入射离子的质量
- C、入射离子的原子序数
- D、靶原子的质量、原子序数、原子密度
- E、注入离子的总剂量
参考答案
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考题
单选题离子注入过程是一个非平衡过程,高能离子进入靶后不断与原子核及其核外电子碰撞,逐步损失能量,最后停下来。停下来的位置是随机的,大部分不在晶格上,因而没有()。A
电活性B
晶格损伤C
横向效应D
沟道效应
考题
单选题关于探测器说法,不正确的是( )。A
非晶硒平板探测器的非晶硒层直接将X线转换成电信号B
太厚的非晶硒会导致其他伪影的产生C
伪影的程度取决于X线被吸收前在非晶硒内前行的距离D
探测器的设计在X线捕获和电子信号之间不产生折中E
图像持留时间限制了图像的采集速度,这对全自动曝光技术带来了负面效应
考题
单选题下列探测器产生的图像质量由好到坏的排序是( )。A
非晶硅-非晶硒-CCDB
CCD-非晶硅-非晶硒C
非晶硒-非晶硅-CCDD
非晶硅-CCD-非晶硒E
CCD-非晶硒-非晶硅
考题
判断题离子注入工艺中被掺杂的材料称为靶,靶材料可以是晶体,也可以是非晶体,非晶靶也称为无定形靶。A
对B
错
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