关于自动曝光控制(AEC)的解释，错误的是A、根据被照体厚薄预先确定曝光量B、有电离室式探测器C、AEC的管电压特性与所用屏/片体系的管电压特性有关D、有半导体式探测器E、探测器的采光野位置应根据摄影部位选择

题目内容（请给出正确答案）

关于自动曝光控制(AEC)的解释，错误的是

A、根据被照体厚薄预先确定曝光量

B、有电离室式探测器

C、AEC的管电压特性与所用屏/片体系的管电压特性有关

D、有半导体式探测器

E、探测器的采光野位置应根据摄影部位选择

参考答案

考题关于电离室控时自动曝光控制叙述错误的是A、利用气体的电离效应B、X线强度大时，电离电流大C、X线强度大时，曝光时间长D、电容充电电流与X线曝光量成反比E、电离电流小时，曝光时间长

查看答案

考题自动曝光控制系统，探测器的种类有A、液体探测器B、液体探测器C、电离室探测器D、晶体探测器E、金属探测器

查看答案

考题关于自动曝光量控制(AEC)的叙述，错误的是A、被照体很薄时，AEC也可立即切断X线B、半导体、荧光体3种C、AEC的管电压特性与所用屏胶体系的管电压特性有关D、探测器置于屏胶体系之前还是之后，效果不一样E、形状、数量应根据摄影部位选择

查看答案

考题下列关于自动曝光控制的叙述，错误的是A.可采用荧光体型探测器B.可采用电离室型探测器C.可减少人为条件选择不当的失误D.可自动切断X线的产生E.多在一钮制设备中使用

查看答案

考题常规自动曝光摄影用的探测器是A.机械式B.电子式C.数字式D.电离室式E.闪烁晶体

查看答案

考题关于电离室控时自动曝光控制,下列叙述错误的是 A.利用气体的电离效应B.X线强度大时，电离电流大C.X线强度大时，曝光时间长D.电容充电电流与X线曝光量呈反比E.电离电流小时，曝光时间长

查看答案

考题预曝光方式AEC的工作环节,错误的是()。 A、根据压迫厚度设定条件B、进行一次15毫秒的预曝光C、探测乳腺的组织密度D、据此设定所需的mAs值E、正式曝光并自动终止

查看答案

考题关于高千伏摄影选用设备及条件的叙述,错误的是 A、选用150kV管电压的X线机B、选用低栅比滤线器C、选用密纹滤线栅D、可用空气间隙效应代替滤线栅E、采用自动曝光控制(AEC)

查看答案

考题关于自动曝光量控制(AEC)的叙述，错误的是A．被照体很薄时，AEC也可立即切断X线B．探测器有电离室式、半导体、荧光体三种C．AEC的管电压特性与所用屏胶体系的管电压特性有关D．探测器置于屏胶体系之前还是之后，效果不一样E．探测器的探测野位置、形状、数量应根据摄影部位选择

查看答案

热门标签