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问答题
熔体生长单晶所用坩埚材料遵循哪些原则?
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考题
镀膜镜片表面产生杂质,以下哪些是可能原因?()A、材料本身不纯,有杂质B、预熔时没熔透,镀膜时有飞溅C、光斑打到边缘或外边,将其它物质镀到镜片上D、坩埚盖板太脏,预熔时有膜料残渣掉进坩埚
考题
手动预熔材料时,应注意下列哪些事项?()A、真空室内达到一定的真空度,开始加电流预熔材料B、光斑不能打到坩埚边上,更不能打到坩埚外边C、预熔时的最高电流一定要高于蒸发时的电流D、不同材料不同的预熔电流
考题
影响单晶内杂质数量及分布的主要因素是()①原材料中杂质的种类和含量;②杂质的分凝效应;③杂质的蒸发效应;④生长过程中坩埚或系统内杂质的沾污;⑤加入杂质量;A、①②④B、②④⑤C、①②④⑤D、①②③④⑤
考题
单选题影响单晶内杂质数量及分布的主要因素是()①原材料中杂质的种类和含量;②杂质的分凝效应;③杂质的蒸发效应;④生长过程中坩埚或系统内杂质的沾污;⑤加入杂质量;A
①②④B
②④⑤C
①②④⑤D
①②③④⑤
考题
问答题简述熔体法生长单晶的特点以及主要方法?
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