考题
红外分析仪发送器部分的红外辐射光源部分主要部件是（）。A、辐射源B、测量气室C、滤光气室D、参比气室
考题
红外线气体分析仪参比气室漏气，仪表示值会有什么变化？
考题
双光路红外线分析仪中干涉滤光片、滤波气室的作用是（）。A、去掉干扰组分B、增加光强C、平衡气路D、光路平衡
考题
红外线分析仪使用的气室有（）。A、参比气室B、检测器气室C、滤波气室D、测量气室
考题
双光路红外分析仪通常采用薄膜检测器，其接受气室要充有（）气体。A、待测气B、氮气C、参比气体D、少量惰性气体
考题
在线红外气体分析仪用于分析合成氨生产过程中CO的含量时，过滤（滤波）气室的作用主要用于克服背景气体中（）待测组分的干扰。A、N2B、H2C、O2D、CO2
考题
当样品中待测组分和干扰组分的吸收峰重叠且波长接近，干扰组分的吸收又很强时，待测组分的吸收峰只表现为肩峰，或两组分的吸收峰严重重叠，使用（）法为宜。A、示差B、双波长C、导数D、计量学分光光度
考题
单光路红外分析仪在切光片上装有两组（），用来将红外光源调制成两组不同波长范围的光束，分别作为测量光束与参比光束。A、滤波气室B、参比气室C、干涉滤光片D、光源反射镜
考题
热导检测器式分析仪参比气室中封装的气体的热导率及性能应与（）相近。A、背景组分B、被测组分C、混合气体D、惰性气体
考题
红外线分析仪测量气室或晶片被污染后，使仪器灵敏度下降，测量误差增大，在清洗气室及窗口晶片时，要选择相应的清洗剂，严禁破坏（）的光滑度。A、切光片B、气室内壁C、晶片D、参比室
考题
AR201N产生“回程”现象是由（）引起。A、参比边光强＝测量边光强B、参比边光强﹤测量边光强C、参比气压力＝测量气压力D、参比气室浓度﹤测量气室浓度
考题
单光路红外分析仪为了防止强干扰组分的严重影响，进一步提高选择性，在测量气室前面要设置（）。A、滤波气室B、同步电机C、干涉滤光片D、光源发射器
考题
红外线分析仪参比气室内封装（）气体。A、测量气体B、干扰组分C、中性气体D、混合气体
考题
红外线分析仪检测器内封装（）气体。A、被测气体B、干扰组分C、中性气体D、参比气体
考题
背景气中对分析有影响的组分叫做（）。A、待测组分B、干扰组分C、参比气D、载气
考题
当红外线分析仪采用滤波气室时，滤波气室内封装（）气体。A、测量气体B、干扰组分C、中性气体D、氮气
考题
红外线分析仪中，待测组分外的其他组分都叫（）。A、参比气体B、载气C、背景气体D、稀释气
考题
若需要改变红外线分析仪的测量范围，只要适当改变测量气室的（）及在仪表放大器部分采用线性校正网络，使得输出与待测组分浓度之间成线性关系即可。A、长度B、容积C、位置D、方向
考题
当干扰组分较多或进行微量分析时，红外线分析仪一般采用（）进行滤波。A、参比气室B、干涉滤光片C、滤波气室D、测量气室
考题
双光路红外分析仪有干扰组分存在时通常在测量气室前加（），用来克服背景气体的干扰。A、参比气室B、滤波气室C、过滤器组件D、相位调整器
考题
天然气的组分分析，在实验室通常采用的仪器是（）。A、气相色谱分析仪B、硫元素分析仪C、可燃气体分析仪D、氧含量分析仪
考题
红外线气体分析仪红外光源经切光装置分别进入工作气室和参比气室进行比较，参比气室中充入对红外线不吸收的（）。A、氧气B、氮气C、一氧化碳D、二氧化碳
考题
用非分散红外法测定环境空气和固定污染源排气中一氧化碳时，红外线气体分析器中的测量气室可连续通过被测气体，而参比气室是充以不吸收被测组分的特征红外光的气体。
考题
对红外线气体分析器进行校正时，用标准气对参比气室进行校正。
考题
AR202N测量室的参比气室充有（）A、吸收红外线辐射气体B、不吸收红外线辐射的惰性气体C、待测气体D、干扰气体
考题
判断题用非分散红外法测定环境空气和固定污染源排气中一氧化碳时，红外线气体分析器中的测量气室可连续通过被测气体，而参比气室是充以不吸收被测组分的特征红外光的气体。A
对B
错
考题
判断题对红外线气体分析器进行校正时，用标准气对参比气室进行校正。A
对B
错
