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判断题
EDI组件最佳工作电流与给水的TES和纯水水质要求有关。
A

B


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考题 EDI组件最佳工作电流与给水的()和纯水()要求有关。A.水量B.水质C.TEAD.TES

考题 EDI组件进水水质较好,运行电流较高;进水水质较差,则运行电流较低。A对B错

考题 为了防止EDI组件内部泄漏不影响纯水水质,浓水出口应当保持一定的背压。A对B错

考题 过高的给水TES导致EDI组件内部树脂工作界面向出水端迁移,这导致抛光树脂量减少,因此引起弱电解质清除率的降低,纯水电阻率随之降低。A对B错

考题 EDI组件最佳工作电流与给水的()和纯水()要求有关。A水量;水质B水质;TESCTEA;水量DTES;水量

考题 为了保证EDI组件内部泄漏不影响纯水水质,产品水出口压力应当比()压力高。A浓水出口B极水出口C给水D浓水和极水出口

考题 EDI给水的水质是EDI实现其最优性能和减少设备故障的条件,给水里的污染物会对除盐组件有负面影响,增加维护量并降低膜组件的寿命。A对B错

考题 为了保证EDI组件内部泄漏不影响纯水水质,产品水出口压力应当比浓水和极水出口压力高。A对B错

考题 EDI给水的水质是EDI实现其最优性能和减少设备故障的条件,给水里的污染物会对除盐组件有负面影响,增加维护量并降低膜组件的寿命。

考题 EDI组件进水水质较好,运行电流较高;进水水质较差,则运行电流较低。

考题 EDI组件最佳工作电流与给水的()和纯水()要求有关。A、水量;水质B、水质;TESC、TEA;水量D、TES;水量

考题 EDI组件最佳工作电流与给水的()和纯水()要求有关。A、水量B、水质C、TEAD、TES

考题 为了防止EDI组件内部泄漏不影响纯水水质,浓水出口应当保持一定的背压。

考题 EDI组件进水水质较好,运行电流();进水水质较差,则运行电流()。A、较高B、较低C、波动D、不变

考题 EDI工作电流与EDI组件中()成正比。A、电压B、给水水量C、离子迁移数量D、电压梯度

考题 为了保证EDI组件内部泄漏不影响纯水水质,产品水出口压力应当比浓水和极水出口压力高。

考题 EDI组件最佳工作电流与给水的TES和纯水水质要求有关。

考题 过高的给水TES导致EDI组件内部树脂工作界面向出水端迁移,这导致抛光树脂量减少,因此引起弱电解质清除率的降低,纯水电阻率随之降低。

考题 EDI组件给水电导率低时,模块的电流较小,这样会影响产品水水质。这时可以选择减少浓水循环量来提高电导率。

考题 EDI组件给水总可交换物质(TES,以CaCO3计),TES的控制指标为()。A、25mg/LB、≤25mg/LC、50mg/LD、≤50mg/L

考题 多选题EDI组件最佳工作电流与给水的()和纯水()要求有关。A水量B水质CTEADTES

考题 判断题EDI给水的水质是EDI实现其最优性能和减少设备故障的条件,给水里的污染物会对除盐组件有负面影响,增加维护量并降低膜组件的寿命。A 对B 错

考题 单选题EDI组件最佳工作电流与给水的()和纯水()要求有关。A 水量;水质B 水质;TESC TEA;水量D TES;水量

考题 单选题EDI工作电流与EDI组件中()成正比。A 电压B 给水水量C 离子迁移数量D 电压梯度

考题 判断题EDI组件进水水质较好,运行电流较高;进水水质较差,则运行电流较低。A 对B 错

考题 判断题过高的给水TES导致EDI组件内部树脂工作界面向出水端迁移,这导致抛光树脂量减少,因此引起弱电解质清除率的降低,纯水电阻率随之降低。A 对B 错

考题 单选题为了保证EDI组件内部泄漏不影响纯水水质,产品水出口压力应当比()压力高。A 浓水出口B 极水出口C 给水D 浓水和极水出口

考题 单选题EDI组件给水总可交换物质(TES,以CaCO3计),TES的控制指标为()。A 25mg/LB ≤25mg/LC 50mg/LD ≤50mg/L