考题
EDI组件最佳工作电流与给水的()和纯水()要求有关。A.水量B.水质C.TEAD.TES
考题
EDI组件进水水质较好，运行电流较高；进水水质较差，则运行电流较低。A对B错
考题
为了防止EDI组件内部泄漏不影响纯水水质，浓水出口应当保持一定的背压。A对B错
考题
过高的给水TES导致EDI组件内部树脂工作界面向出水端迁移，这导致抛光树脂量减少，因此引起弱电解质清除率的降低，纯水电阻率随之降低。A对B错
考题
EDI组件最佳工作电流与给水的（）和纯水（）要求有关。A水量；水质B水质；TESCTEA；水量DTES；水量
考题
为了保证EDI组件内部泄漏不影响纯水水质，产品水出口压力应当比（）压力高。A浓水出口B极水出口C给水D浓水和极水出口
考题
EDI给水的水质是EDI实现其最优性能和减少设备故障的条件，给水里的污染物会对除盐组件有负面影响，增加维护量并降低膜组件的寿命。A对B错
考题
为了保证EDI组件内部泄漏不影响纯水水质，产品水出口压力应当比浓水和极水出口压力高。A对B错
考题
EDI给水的水质是EDI实现其最优性能和减少设备故障的条件，给水里的污染物会对除盐组件有负面影响，增加维护量并降低膜组件的寿命。
考题
EDI组件进水水质较好，运行电流较高；进水水质较差，则运行电流较低。
考题
EDI组件最佳工作电流与给水的（）和纯水（）要求有关。A、水量；水质B、水质；TESC、TEA；水量D、TES；水量
考题
EDI组件最佳工作电流与给水的（）和纯水（）要求有关。A、水量B、水质C、TEAD、TES
考题
为了防止EDI组件内部泄漏不影响纯水水质，浓水出口应当保持一定的背压。
考题
EDI组件进水水质较好，运行电流（）；进水水质较差，则运行电流（）。A、较高B、较低C、波动D、不变
考题
EDI工作电流与EDI组件中（）成正比。A、电压B、给水水量C、离子迁移数量D、电压梯度
考题
为了保证EDI组件内部泄漏不影响纯水水质，产品水出口压力应当比浓水和极水出口压力高。
考题
过高的给水TES导致EDI组件内部树脂工作界面向出水端迁移，这导致抛光树脂量减少，因此引起弱电解质清除率的降低，纯水电阻率随之降低。
考题
EDI组件给水电导率低时，模块的电流较小，这样会影响产品水水质。这时可以选择减少浓水循环量来提高电导率。
考题
EDI组件给水总可交换物质（TES，以CaCO3计），TES的控制指标为（）。A、25mg/LB、≤25mg/LC、50mg/LD、≤50mg/L
考题
多选题EDI组件最佳工作电流与给水的（）和纯水（）要求有关。A水量B水质CTEADTES
考题
判断题EDI给水的水质是EDI实现其最优性能和减少设备故障的条件，给水里的污染物会对除盐组件有负面影响，增加维护量并降低膜组件的寿命。A
对B
错
考题
单选题EDI组件最佳工作电流与给水的（）和纯水（）要求有关。A
水量；水质B
水质；TESC
TEA；水量D
TES；水量
考题
单选题EDI工作电流与EDI组件中（）成正比。A
电压B
给水水量C
离子迁移数量D
电压梯度
考题
判断题EDI组件进水水质较好，运行电流较高；进水水质较差，则运行电流较低。A
对B
错
考题
判断题过高的给水TES导致EDI组件内部树脂工作界面向出水端迁移，这导致抛光树脂量减少，因此引起弱电解质清除率的降低，纯水电阻率随之降低。A
对B
错
考题
单选题为了保证EDI组件内部泄漏不影响纯水水质，产品水出口压力应当比（）压力高。A
浓水出口B
极水出口C
给水D
浓水和极水出口
考题
单选题EDI组件给水总可交换物质（TES，以CaCO3计），TES的控制指标为（）。A
25mg/LB
≤25mg/LC
50mg/LD
≤50mg/L
