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预处理时过量的氧化剂或还原剂是否除去对于滴定的影响不大。


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考题 间接碘量法测定铜时,加入过量KI的作用是()。 A.还原剂B.沉淀剂、络合剂C.氧化剂D.还原剂、沉淀剂和络合剂

考题 碘量法应用范围A.直接碘量法——用于弱还原剂的测定B.直接碘量法——用于强氧化剂的测定C.置换滴定法——用于强还原剂的测定D.置换滴定法——用于强还原剂的测定E.剩余滴定法——用于可与过量I2反应的还原性物质的测定

考题 氧化还原滴定曲线电位突跃的大小与()。 A、氧化剂电对条件电位有关B、还原剂电对条件电位有关C、氧化剂电对标准电位有关D、氧化剂与还原剂两电对的条件电位之差有关

考题 碘量法的应用范围包括A.直接碘量法-用于弱还原剂的测定B.直接碘量法-用于强还原剂的测定C.置换滴定法-用于强氧化剂的测定D.置换滴定法-用于强还原剂的测定E.剩余滴定法-用于可与过量I2反应的还原性物质的测定

考题 氧化还原反应中过量的氧化剂或还原剂初去的方法有()。A、加热溶解B、过滤C、利用化学反应D、降低温度

考题 在氧化还原反应中,进行预处理时所用的氧化剂或还原剂应符合哪些要求()。A、必须将待测组分定量地氧化或还原,而且反应应快速进行完全B、反应应具有一定的选择性C、过量的氧化剂或还原剂要易于除去D、反应不可具有选择性

考题 碘量法应用范围()A、直接碘量法--用于弱还原剂的测定B、直接碘量法--用于强氧化剂,的测定C、置换滴定法--用于强还原剂的测定D、置换滴定法--用于强还原剂的测定E、剩余滴定法--用于可与过量I反应的还原性物质的测定

考题 玻璃电极测定pH值时不受溶液中氧化剂或还原剂存在的影响。

考题 邻二氮菲-亚铁作为指示剂,溶液稳定,变色敏锐,条件电位较高,因此,较适合()。A、一般氧化剂作滴定剂时使用B、强还原剂作滴定剂时使用C、强氧化剂作滴定剂时使用D、所有滴定剂

考题 银量法中佛尔哈德法间接测定CL-时,先加入过量的Ag,,生成AgCl沉淀,设法使AgCl凝聚或除去,以防止影响滴定终点的观察。

考题 关于氧化还原滴定法的原理,下列叙述正确的是()。A、氧化还原反应的特点是反应过程复杂、副反应多,反应速度慢,反应条件不易控制B、氧化还原反应不可以间接滴定一些能与氧化剂或还原剂发生定量反应的物质C、氧化还原滴定法是以高锰酸钾反应为基础的滴定分析法D、氧化还原反应也可以间接滴定一些能与氧化剂或还原剂发生定性反应的物质

考题 以溶液中氧化剂与还原剂之间的电转移为基础的一种滴定分析方法是()滴定法。

考题 简述预处理时所用的氧化剂或还原剂应满足的条件。

考题 预处理时,过量的氧化剂或还原剂采用下列哪种方法不能出去()A、利用化学原理B、过滤C、加热分解D、稀释

考题 用来盛氧化剂、还原剂等溶液的滴定管被称为()。A、常量滴定管B、酸式滴定管C、碱式滴定管D、微量滴定管

考题 在配位滴定中,影响滴定突跃范围的因素是()A、△ф’与介质B、△ф’与氧化剂和还原剂的浓度C、lgK’MY与浓度D、Ksp与浓度

考题 预处理时,过量的氧化剂或还原剂采用()、()、()方法除去。

考题 预处理时,过量的H2O2可以采用加热煮沸而除去。

考题 预处理时所用的氧化剂或还原剂必须将欲测组分定量的氧化或还原。

考题 关于预处理时所用的氧化剂或还原剂的说法错误的是()A、必须将预测组分定量的氧化或还原B、氧化剂或还原剂必须稳定C、反应速率快D、反应应具有一定的选择性

考题 问答题在进行氧化还原滴定之前,为什么要进行预氧化或预还原的处理?预处理时对所用的预氧化剂或还原剂有哪些要求?

考题 填空题以溶液中氧化剂与还原剂之间的电转移为基础的一种滴定分析方法是()滴定法。

考题 单选题在配位滴定中,影响滴定突跃范围的因素是()A △ф’与介质B △ф’与氧化剂和还原剂的浓度C lgK’MY与浓度D Ksp与浓度

考题 多选题在氧化还原反应中,进行预处理时所用的氧化剂或还原剂应符合哪些要求()。A必须将待测组分定量地氧化或还原,而且反应应快速进行完全B反应应具有一定的选择性C过量的氧化剂或还原剂要易于除去D反应不可具有选择性

考题 问答题氧化还原滴定之前,为什么要进行预处理?对预处理所用的氧化剂或还原剂有哪些要求?

考题 单选题用来盛氧化剂、还原剂等溶液的滴定管被称为()。A 常量滴定管B 酸式滴定管C 碱式滴定管D 微量滴定管

考题 单选题碘量法应用范围()A 直接碘量法--用于弱还原剂的测定B 直接碘量法--用于强氧化剂,的测定C 置换滴定法--用于强还原剂的测定D 置换滴定法--用于强还原剂的测定E 剩余滴定法--用于可与过量I反应的还原性物质的测定