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关于PS版的曝光下列说法错误的是()

  • A、当光源一定时,改变晒版灯距会影响曝光时间
  • B、爆稼灯是比较理想的一种曝光源
  • C、曝光量增大时,晒版后会出现显影困难的现象
  • D、曝光量减小时,容易产生显影困难.暗调网点糊死的现象

参考答案

更多 “关于PS版的曝光下列说法错误的是()A、当光源一定时,改变晒版灯距会影响曝光时间B、爆稼灯是比较理想的一种曝光源C、曝光量增大时,晒版后会出现显影困难的现象D、曝光量减小时,容易产生显影困难.暗调网点糊死的现象” 相关考题
考题 利用用过的PS版的铝版基重新制作PS版的方法叫做:()。 A.PS版再生B.PS版还原C.PS版重复利用D.PS版氧化

考题 阳图型PS版的曝光,其实质是发生了()A.光聚合反应B.光分解反应C.光交联反应D.物化反应

考题 如将阳图PS版晒版工艺流程描述成“装版一曝光一显影冲洗一出胶片一检查修正一烤版一提墨一擦胶”,其中多余的环节是( )。A.曝光 B.出胶片 C.烤版 D.擦胶

考题 下列对PS版的有关表述中,不正确的是( )。A.PS版即预涂感光版,是一种预先涂布感光层以供晒版的感光版 B.PS版的感光层可以分为光分解型和光聚合型 C.国内常用的阳图PS版的感光层是光聚合型 D.平版印刷主要用PS版作为印版

考题 利用用过的PS版的铝版基重新制作PS版的方法叫做:()。A、PS版再生B、PS版还原C、PS版重复利用D、PS版氧化

考题 阳图型PS版防止除脏曝光过度,可减少二次曝光时间。

考题 要想使PS版耐印率提高可对其()A、擦胶B、强曝光C、烤烘D、增加其厚度

考题 关于PS字体下述说法错误的是()。A、PS字体不用于屏幕显示B、PS字体采用两次曲线描述字体轮廓C、PS字体可以任意缩放D、PS字体是曲线字体

考题 下列()项不属于影响曝光的主要因素。A、PS版感光版的质量B、分色片的网点密度C、PS版感光版的厚度D、晒版机光源

考题 阳图PS版曝光原理即是图文部分见光分解,胶膜硬化。

考题 下列关于ps的说法正确的是()。A、ps是一款位图软件B、ps不可以制作动画C、ps专用颜色模式为CMYKD、ps能够保存jpeg的图片格式

考题 阳图型PS版的曝光,其实质是发生了()A、光聚合反应B、光分解反应C、光交联反应D、物化反应

考题 关于LTE,以下哪种说法是错误的是()A、LTE既有CS域也有PS域B、LTE只有PS域C、LTE既无CS域也无PS域D、LTE只有CS域

考题 制作PS版时,为提高印版耐印力,可对印版进行()处理。A、曝光B、烤版C、显影D、修版

考题 平版晒版时,PS版与底片药膜相对是为了()。A、防止不应曝光的部位曝光B、保证印版与底片密合C、减少曝光时间D、防止印版药膜发生化学反应

考题 阳图型PS版曝光后,构成网点的感光膜层厚度越小,版材印刷寿命越长。

考题 制作PS版时要用()对印版进行曝光。A、红外光B、蓝光C、紫外光D、绿光

考题 未曝光照相制版用PS版

考题 单选题关于计算机拼大版,说法错误的是( )。A 可以提高自动化程度B 可以减少PS版用量C 可以提高拼版精度D 可以提高产品稳定性

考题 单选题阳图型PS版的曝光,其实质是发生了()A 光聚合反应B 光分解反应C 光交联反应D 物化反应

考题 单选题关于PS版的曝光下列说法错误的是()A 当光源一定时,改变晒版灯距会影响曝光时间B 爆稼灯是比较理想的一种曝光源C 曝光量增大时,晒版后会出现显影困难的现象D 曝光量减小时,容易产生显影困难.暗调网点糊死的现象

考题 单选题平版晒版时,PS版与底片药膜相对是为了()。A 防止不应曝光的部位曝光B 保证印版与底片密合C 减少曝光时间D 防止印版药膜发生化学反应

考题 单选题制作PS版时,为提高印版耐印力,可对印版进行()处理。A 曝光B 烤版C 显影D 修版

考题 单选题要想使PS版耐印率提高可对其()A 擦胶B 强曝光C 烤烘D 增加其厚度

考题 单选题PS版分辨率跟()关系最大。A 显影时间B 显影温度C 曝光时间D 电解粗化

考题 判断题阳图型PS版防止除脏曝光过度,可减少二次曝光时间。A 对B 错

考题 判断题阳图型PS版曝光后,构成网点的感光膜层厚度越小,版材印刷寿命越长。A 对B 错