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阳图型PS版防止除脏曝光过度，可减少二次曝光时间。

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考题 采用散射膜进行二次曝光除脏时,应采用()进行曝光,然后以主曝光时间的一半进行除脏曝光。 A.比标准曝光时间减少1/5的时间B.比标准曝光时间增加1/5的时间C.比标准曝光时间减少1/2的时间D.比标准曝光时间增加1/2的时间
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考题 不是阳图型PS版除脏方法之一的是:()。 A.溶剂法B.物理修正法C.光化学法D.工具法
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考题 阳图型PS版的曝光，其实质是发生了（）A.光聚合反应B.光分解反应C.光交联反应D.物化反应
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考题 如将阳图PS版晒版工艺流程描述成“装版一曝光一显影冲洗一出胶片一检查修正一烤版一提墨一擦胶”，其中多余的环节是（ ）。A.曝光 B.出胶片 C.烤版 D.擦胶
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考题 PS版的制版工艺中利用除脏液，把版面上多余的规矩线、胶粘纸、阳图底片粘贴边缘留下的痕迹、尘埃污物等清除干净，称为：（）：A、显影B、除脏C、修补D、烤版
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考题 PS版分辨率跟（）关系最大。A、显影时间B、显影温度C、曝光时间D、电解粗化
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考题 阳图PS版曝光原理即是图文部分见光分解，胶膜硬化。
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考题 阳图型无水平版晒版时，使用的光源和阳图型PS版相同。
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考题 曝光不足败版，重新确定曝光时间可采（）A、同一网版多段曝光B、以不同目数网布试相同曝光C、使用数个网版分别测试D、以不同颜色网布测试
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考题 以下所述曝光正确的是（）A、高精密型乳剂时间长B、细线条可减少曝光时间C、高网线版曝光时间长D、单液型乳剂曝光时间长
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考题 阳图型PS版的曝光，其实质是发生了（）A、光聚合反应B、光分解反应C、光交联反应D、物化反应
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考题 不是阳图型PS版除脏方法之一的是：（）。A、溶剂法B、物理修正法C、光化学法D、工具法
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考题 采用散射膜进行二次曝光除脏时，应采用（）进行曝光，然后以主曝光时间的一半进行除脏曝光。A、比标准曝光时间减少1/5的时间B、比标准曝光时间增加1/5的时间C、比标准曝光时间减少1/2的时间D、比标准曝光时间增加1/2的时间
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考题 平版晒版时，PS版与底片药膜相对是为了（）。A、防止不应曝光的部位曝光B、保证印版与底片密合C、减少曝光时间D、防止印版药膜发生化学反应
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考题 阳图型PS版曝光后，构成网点的感光膜层厚度越小，版材印刷寿命越长。
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考题 阳图型PS版曝光原理是：印版上的（）分子吸收了蓝紫光，产生分解和结构重排反应。A、成膜剂B、辅助剂C、感光剂
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考题 铝基PS版只有阳图型的。
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考题 未曝光照相制版用PS版
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考题 单选题阳图型PS版的曝光，其实质是发生了（）A 光聚合反应B 光分解反应C 光交联反应D 物化反应
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考题 单选题阳图型PS版曝光原理是：印版上的（）分子吸收了蓝紫光，产生分解和结构重排反应。A 成膜剂B 辅助剂C 感光剂
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考题 单选题平版晒版时，PS版与底片药膜相对是为了（）。A 防止不应曝光的部位曝光B 保证印版与底片密合C 减少曝光时间D 防止印版药膜发生化学反应
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考题 单选题PS版分辨率跟（）关系最大。A 显影时间B 显影温度C 曝光时间D 电解粗化
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考题 单选题PS版的制版工艺中利用除脏液，把版面上多余的规矩线、胶粘纸、阳图底片粘贴边缘留下的痕迹、尘埃污物等清除干净，称为：（）：A 显影B 除脏C 修补D 烤版
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考题 单选题不是阳图型PS版除脏方法之一的是：（）。A 溶剂法B 物理修正法C 光化学法D 工具法
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考题 判断题阳图PS版曝光原理即是图文部分见光分解，胶膜硬化。A 对B 错
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考题 判断题阳图型PS版防止除脏曝光过度，可减少二次曝光时间。A 对B 错
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考题 判断题阳图型PS版曝光后，构成网点的感光膜层厚度越小，版材印刷寿命越长。A 对B 错
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