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单选题
在相同检测条件下,同一缺陷所在试件位置越靠近底片侧时,则()
A

其影像放大得越大,而其几何不清晰度变大

B

其影像放大得越小,而其几何不清晰度变大

C

其影像放大得越大,而其几何不清晰度变小

D

其影像放大得越小,而其几何不清晰度变小


参考答案

参考解析
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考题 透照厚试件时,底片可识别的象质计最小线径为0.32mm,此时散射比n为2,然后利用铅阑和屏蔽板,使散射比减为0.5。为拍照黑度相同的底片,则曝光时间应为原来的几倍?又底片上同一线径的影象对比度为原来的几倍?(假定X射线机、管电压、管电流、焦距、胶片、增感屏均不变)

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考题 在相同检测条件下,同一缺陷所在试件位置越靠近底片侧时,则()A、其影像放大得越大,而其几何不清晰度变大B、其影像放大得越小,而其几何不清晰度变大C、其影像放大得越大,而其几何不清晰度变小D、其影像放大得越小,而其几何不清晰度变小

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考题 实时射线检测法(RealTimeRT)即利用射线穿过试件而在荧光屏上成像,其气孔处的影像为()A、与底片成像相同,黑度较大B、与底片成像相同,黑度较小C、与底片成像不同,黑度较大D、与底片成像不同,黑度较小

考题 铁磁性试件的磁感应强度和试件上的缺陷大小都一定时,则随着缺陷的埋藏深度越(),漏磁场强度就越()

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考题 在相同条件下,灭火时间(),则说明泡沫的性能()。A、越短;越差B、越长;越好C、越短;越好D、不同;相同

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