网友您好, 请在下方输入框内输入要搜索的题目:

题目内容 (请给出正确答案)
填空题
23#触媒装填高度为()。

参考答案

参考解析
解析: 暂无解析
更多 “填空题23#触媒装填高度为()。” 相关考题
考题 预脱硫槽触媒单层装填,装填高度()m。 A.3.6B.4.6C.5.6D.6.6

考题 23#触媒如何再生?

考题 23#触媒装填高度为()。

考题 23#触媒再生结束的标志为()。

考题 23#现使用的触媒是山东齐鲁QDB—04触媒。

考题 23#触媒为何要再生()A、提高床层温度B、提高触媒活性C、降低床层温度

考题 23#触媒为何要再生?

考题 某甲醇合成塔装填C302型Cu系触媒,每吨触媒含物理水约48.5kg,每吨触媒CuO质量百分含量约50%,触媒堆重为145t/m3,合成塔可装填8.52m3触媒,求还原时触媒的理论出水量?

考题 混合气流速度,与炉内触媒装填高度有关,触媒装填的越高则气流速度越慢

考题 触媒装填不均匀,触媒粉碎、烧结,这时,转化炉阻力减小。

考题 公司甲醇合成使用的触媒型号是什么?装填量为多少?

考题 R1501、设计触媒装填量为()

考题 23#触媒硫化时的标志是()。

考题 23#触媒床层温度低,对CO有何影响?

考题 23#所用的触媒型号是()名称是()。

考题 23#触媒硫化时系统压力控制指标是()

考题 23#触媒硫化时使用的硫化剂是()

考题 单选题23#触媒为何要再生()A 提高床层温度B 提高触媒活性C 降低床层温度

考题 填空题23#触媒硫化时使用的硫化剂是()

考题 填空题23#触媒硫化时系统压力控制指标是()

考题 填空题23#触媒硫化时的标志是()。

考题 填空题23#触媒再生结束的标志为()。

考题 判断题23#现使用的触媒是山东齐鲁QDB—04触媒。A 对B 错

考题 填空题23#变换炉触媒升温时升温速率控制在()。

考题 填空题23#触媒硫化时,触媒温升至()通入CS2补入量控制在()。

考题 填空题23#所用的触媒型号是()名称是()。

考题 填空题23#变换触媒型号()产地()活性成分()载体()操作温度()外形尺寸()。