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化工过程测量中，（）测量易引入纯滞后。

  • A、流量、压力
  • B、压力、物位
  • C、物位、温度
  • D、温度、成分

参考答案

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考题 滞后产生的原因包括()。 A、测量元件安装位置不当B、测量变送单位本身存在滞后C、测量信号的传递滞后D、以上都不对
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考题 测量变送环节的纯滞后时间常数越小,对控制性能越有利。() 此题为判断题(对，错)。
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考题 双容对象特性与单容对象特性相比增加了()。A、纯滞后B、传送滞后C、测量滞后D、容量滞后
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考题 化工测量过程中测量参数（）测量易引起纯滞后。A、温度、成分B、压力、成分C、流量、温度D、液位、流量
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考题 一个系统的对象有容量滞后，另一个系统由于测量点位置造成纯滞后，如分别采用微分作用克服滞后，效果如何？
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考题 测量滞后一般由测量元件特性引起，克服测量滞后的办法是在调节规律中增加积分环节。
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考题 （）存在纯滞后，通常不影响控制质量。A、调节通道B、测量元件C、变送器D、干扰通道
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考题 对调节系统的几种说法，哪一项是错误的（）。A、对纯滞后大的控制对象，引入微分作用，不能克服其滞后的影响。B、当调节过程不稳定时，可增大积分时间或加大比例度使其稳定。C、当控制器的测量值与给定值相等时，即偏差为零时，控制器的输出为零。D、比例调节过程的余差与调节器的比例度成正比。
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考题 测量信号滞后产生的原因包括（）。A、测量元件安装位置不当B、测量变送单元本身存在滞后C、测量信号的传递滞后D、以上都不对
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考题 化工测量过程中测量参数（）的测量易引起纯滞后。A、温度、成分B、压力、成分C、流量、温度D、液位、流量
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考题 微分作用不能克服对象的（）。A、惯性滞后B、容量滞后C、测量滞后D、纯滞后
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考题 为减小由于测量元件引起的纯滞后，可以选取惰性性小的测量元件，减小时间常数。选择快速的测量元件，保证测量元件的时间常数小于（）控制通道的时间常数，减小动态误差。A、1/4B、1/6C、1/8D、1/10
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考题 仪表信号传递所需的时间是（）时间。A、容量滞后B、纯滞后C、惯性滞后D、测量滞后
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考题 化工生产过程中，仪表测量的五大参数为（）、（）、（）、（）、（）。
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考题 调节对象的纯滞后过大，可以引入微分作用加以克服。
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考题 化工装置为了保证仪表测量精度，减少滞后，管路应尽量（），但对（），为了能使其（），要求测量管路有一定的长度；对脉动较大的介质，也要求测量管路有一定的长度，以使波动平稳，但最长不应大于（）。
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考题 串级调节系统可以用于改善（）时间较大的对象，有超前作用。A、容量滞后B、测量滞后C、惯性滞后D、纯滞后
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考题 在消除和减小系统误差时，可以在测量过程中采取一定措施，避免（）引入测量结果。A、系统误差B、随机误差C、环境误差D、测量误差
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考题 化工过程中测量参数（）、（）测量易引入纯滞后。
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考题 （）存在纯滞后，但不会影响控制品质指标。 A、 控制通道  B、 测量元件  C、 变送器  D、 干扰通道
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考题 在过程控制中克服测量滞后方法有：（）、（）和正确的使用微分单元。
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考题 当（）存在纯滞后，通常不影响控制质量。A、调节通道B、测量元件C、变送器D、干扰通道
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考题 频率测量时，引入误差的因素有（）。A、测量方法引起的误差B、被测信号的调制引起的误差C、测量过程中基准频率引起的误差D、测量包括读数精度的技术特性引起的误差
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考题 测量滞后一般由（）引起，克服测量滞后的办法是在调节规律中（）。
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考题 单选题（）存在纯滞后，但不会影响控制品质指标。A  控制通道  B  测量元件  C  变送器  D  干扰通道
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考题 单选题当（）存在纯滞后，通常不影响控制质量。A 调节通道B 测量元件C 变送器D 干扰通道
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考题 填空题在过程控制中克服测量滞后方法有：（）、（）和正确的使用微分单元。
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