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反应器装剂前干燥的最高控制温度是480℃。


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考题 催化剂再生时床层温度最高控制()℃,绝不能超过()℃。 A、510,550B、510,525C、480,500D、450,480

考题 关于催化剂干燥,下列说法错误的是( )。A、在干燥过程中要控制升温速度,防止反应器入口温度上升过快,而床层温度过低,造成反应器上部水汽化而又在反应器下部冷凝的现象B、升压或泄压速度严格按标准进行,气密实验压力也应严格按照规定的压力进行,不得超压C、反应系统升温过程中,热高分底部要间断排放,避免底部温度升温过慢D、发现漏点,不需要处理

考题 控制脱氢反应器升温速度为50℃/h现脱氢反应器入口温度为100℃,升温到480℃时还原催化剂4小时,在390℃时,切油问几小时后能够切油?

考题 催化剂干燥时,加氢裂化反应器R101进口最高温度控制175℃。

考题 催化剂再生时床层温度最高控制()℃,绝不能超过()℃。A、510、550B、510、525C、480、500D、450、480

考题 催化剂氮气干燥恒温脱水温度为()℃,反应器入口温度最高不能超过(300)℃。

考题 加氢装置催化剂再生时,温升的计算方法是()。A、床层最高温度减最低温度B、床层最高温度减入口温度C、反应器入口温度减出口温度D、反应器平均温度减入口温度

考题 在反应器装催化剂之前,不需要对管线和设备进行干燥。

考题 催化剂干燥时,加氢裂化反应器进口最高温度控制()℃。A、150B、175C、200D、260

考题 反应系统干燥时,异构脱蜡反应器进口最高温度控制()℃。A、320B、439C、368D、260

考题 关于催化剂硫化,下列说法正确的是()℃。A、低温硫化,反应器出口温度控制在218~232℃B、高温硫化,反应器出口温度控制在300~315℃C、硫化期间反应器平均温度控制不超过330℃D、硫化期间反应器内任一点温度控制不超过330℃

考题 脱氢反应器切换前()。A、备用台反应器催化剂需经高温还原B、备用台反应器催化剂无需还原C、运行台和备用台反应器入口温度相近D、运行台在使用温度备用台在390℃

考题 反应器进口温度控制系统发生故障,在负荷不变的情况下,降低反应进口温度的目的是防止反应器出现超温损害催化剂的活性。()

考题 关于加氢裂化反应系统干燥,下列说法正确的是()。A、反应系统干燥时,加氢裂化反应器进口最高温度控制368℃B、反应系统干燥时,加氢裂化反应系统压力控制14.6MPaC、反应器进口温度达到368℃4小时后,检测冷高分的排水量,若排水量小于0.5l/h,则反应系统干燥结束D、干燥过程中注意检查系统之间有无发生意外内窜现象,严防高压窜低压

考题 关于异构脱蜡反应系统干燥,下列说法正确的是()。A、反应系统干燥时,加氢裂化反应器进口最高温度控制368℃B、反应系统干燥时,加氢裂化反应系统压力控制14.6MPaC、反应器进口温度达到368℃4小时后,检测冷高分的排水量,若排水量小于0.5l/h,则反应系统干燥结束D、燥过程中注意检查系统之间有无发生意外内窜现象,严防高压窜低压

考题 关于加氢裂化催化剂干燥,下列说法正确的是()A、催化剂干燥时,加氢裂化反应器进口最高温度控制在175℃B、催化剂干燥时,加氢裂化反应系统压力控制3.5MPaC、催化剂干燥结束标志是反应器进口温度升至175℃后,直至反应器出口温度达到135℃,并且冷高分无水增加D、催化剂干燥时,停用反应炉低流量联锁

考题 高压聚乙烯装置反应器温度是通过控制调节剂加入量来控制的。

考题 反应器投引发剂时反应器的温度必须低于引发剂引发温度。

考题 加氢催化剂干燥结束后,当反应器床层最高点温度低于导致催化剂氢气还原的最低温度后,才能将氢气引进系统。

考题 关于反应系统急冷氢试验条件,下列选项错误的是()A、反应器内构件安装完毕,未装催化剂B、系统氢气气密合格,氢气纯度80%C、反应器入口温度控制在150℃D、控制床层任一点温度不大于230℃

考题 加氢催化剂干燥结束后,当反应器床层最高点温度低于()时,才能将氢气引进系统。A、150℃B、180℃C、200℃D、250℃

考题 S-Zorb装置过滤器建立滤饼的时间是()。A、再生器装剂B、再生器升温C、反应器装剂D、反应器升温

考题 催化剂干燥时,反应器入口温度应控制在()℃。A、100B、120C、135D、150

考题 反应系统干燥时,加氢裂化反应器进口最高温度控制()℃A、320B、439C、368D、260

考题 催化剂干燥结束标志是()。A、反应器进口温度升至175℃后,直至反应器出口温度达到135℃,并且冷高分无水增加B、反应器进口温度升至175℃后C、冷高分无水增加D、反应器出口温度达到135℃

考题 氨合成反应器有四层催化剂,最上一层控制较高反应温度(480℃),最下一层控制较低反应温度(450℃),其原因是()。A、最上一层主要考虑产物中NH3的浓度,最下一层主要考虑提高反应速率B、最上一层装的是活性小的催化剂,最下一层装的是活性高的催化剂C、最上一层主要矛盾是提高反应速率,最下一层主要考虑反应平衡,以便提高产物气体中NH3的浓度D、B与C的综合

考题 单选题氨合成反应器有四层催化剂,最上一层控制较高反应温度(480℃),最下一层控制较低反应温度(450℃),其原因是()。A 最上一层主要考虑产物中NH3的浓度,最下一层主要考虑提高反应速率B 最上一层装的是活性小的催化剂,最下一层装的是活性高的催化剂C 最上一层主要矛盾是提高反应速率,最下一层主要考虑反应平衡,以便提高产物气体中NH3的浓度D B与C的综合