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提高配位滴定选择性的方法有（）和（）。消除干扰离子常用的措施有（）、（）、（）和（）。
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考题
在EDTA滴定中,提高选择性的方法有()。
A、控制酸度，降低干扰离子与EDTA配离子的稳定性B、提高酸度，降低干扰离子的浓度C、配位掩蔽法降低干扰离子的浓度D、氧化还原掩蔽法降低干扰离子的浓度E、沉淀掩蔽法降低干扰离子的浓度
考题
用直接配位滴定方式，必须满足的条件有（）。A、配位反应速度快，且满足lgCMK′MY≥6B、指示剂变色敏锐，无封闭和僵化现象C、在滴定的条件下，被测金属离子不水解不沉淀D、溶液中无干扰离子存在
考题
多选题在配位滴定中，消除干扰离子的方法有（）。A掩蔽法B预先分离法C改用其它滴定剂法D控制溶液酸度法
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