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填空题
负胶适于刻蚀()(细/粗)线条。
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考题
单选题不论正胶或负胶,光刻过程中都包括如下步骤: 1.刻蚀 2.前烘 3..显影 4.去胶 5.涂胶 6.曝光 7.坚膜 以下选项排列正确的是:()。A
2561437B
5263471C
5263741D
5263714。
考题
多选题根据胶粉细度规格,下列分类正确的选项有()A特粗胶粉B粗胶粉C细胶粉D微细胶粉E特细胶粉
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