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5.让贴图坐标对应到模型坐标,在模型上添加____可以实现效果。

A．【UVW贴图】修改器

B．【UV贴图】修改器

C．【UVW展开】修改器

D．【UV展开】修改器

参考答案和解析
【UVW贴图】修改器;【UVW展开】修改器
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考题 ()是在分析模型的基础上,添加了设计元素的结构,使得分析模型更加接近系统实现。 A.领域模型B.数据模型C.设计模型D.概念模型
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考题 在处理图形时常常涉及的坐标系有模型坐标系（），世界坐标系，观察坐标系，设备坐标系。
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考题 在处理图形时常常涉及的坐标有模型坐标系、（）、世界坐标系和（）。
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考题 本体坐标系（模型坐标系）
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考题 通过UVW移除工具（）.A、材质B、坐标C、即可以删除选定材质，也可以删除贴图坐标D、既不可以删除选定材质，也不可以删除贴图坐标
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考题 （）是在分析模型的基础上，添加了设计元素的结构，使得分析模型更加接近系统实现。A、领域模型B、数据模型C、设计模型D、概念模型
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考题 SSE-CMM模型体系结构的横坐标为过程区，纵坐标为能力级别。
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考题 下列关于倒角剖面（Bevle Profile）修改器的错误的是（）。A、在使用倒角剖面（Bevle ProfilE）修改器之前，必须要有一条路径和一个剖面。B、如果删除原始的倒角剖面，倒角剖面效果会失效。C、在为样条线对象添加了倒角剖面（Bevle ProfilE）修改器后，产生的模型自身具备贴图坐标。D、倒角剖面不具备封口（Capping）的功能
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考题 纹理坐标系用在下面哪种贴图上？（）A、自发光贴图B、反射贴图C、折射贴图D、环境贴图
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考题 实现物体坐标到达屏幕坐标的处理管线中，包括的处理步骤有（）A、视图模型矩阵操作B、投影操作C、透视除法进行规范化D、视口变换
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考题 在使用3dsmax2014版本的视口画布之前。对需要绘制贴图的模型有怎样的要求（）？ A模型是可编辑多边形 B模型被赋予了材质 C模型有贴图坐标，使用UVW贴图修改器或自带贴图坐标均可 D模型有漫反射纹理贴图A、ABCDB、BCDC、ACDD、ABD
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考题 纹理坐标系用在下面哪种贴图类型上（）。A、自发光贴图B、反射贴图C、折射贴图D、环境贴图
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考题 坐标系统转换模型的精度可以从转换模型的（）精度及（）精度两方面来考虑。
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考题 立体像对的相对定向（）。A、建立的立体几何模型的空间方位和比例尺都是任意的；B、目的是建立立体几何模型，需要依靠控制点进行；C、通过消除标准点位上的同名像点的左右视差，可以完成相对定向；D、通过解求相对定向元素，求得模型点在像空间辅助坐标系中的坐标。
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考题 填空题在处理图形时常常涉及的坐标系有模型坐标系（），世界坐标系，观察坐标系，设备坐标系。
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考题 单选题在UVW贴图坐标中用什么贴图坐标可以给盖面附上一个贴图（）A 平面贴图坐标B 柱形贴图坐标C 面贴图坐标D 盒子贴图坐标
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考题 填空题在处理图形时常常涉及的坐标有模型坐标系、（）、世界坐标系和（）。
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考题 名词解释题本体坐标系（模型坐标系）
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考题 单选题通过UVW移除工具（）.A 材质B 坐标C 即可以删除选定材质，也可以删除贴图坐标D 既不可以删除选定材质，也不可以删除贴图坐标
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考题 单选题（）是在分析模型的基础上，添加了设计元素的结构，使得分析模型更加接近系统实现。A 领域模型B 数据模型C 设计模型D 概念模型
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考题 单选题纹理坐标系用在下面哪种贴图类型上（）。A 自发光贴图B 反射贴图C 折射贴图D 环境贴图
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考题 填空题坐标系统转换模型的精度可以从转换模型的（）精度及（）精度两方面来考虑。
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考题 单选题在使用3dsmax2014版本的视口画布之前。对需要绘制贴图的模型有怎样的要求（）？ A模型是可编辑多边形 B模型被赋予了材质 C模型有贴图坐标，使用UVW贴图修改器或自带贴图坐标均可 D模型有漫反射纹理贴图A ABCDB BCDC ACDD ABD
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考题 判断题SSE-CMM模型体系结构的横坐标为过程区，纵坐标为能力级别。A 对B 错
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