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1、简述选择化学气相沉积前驱体的基本要求？化学气相沉积的基本反应类型有哪些？
参考答案和解析
①在中温或高温下，通过气态的初始化合物之间的气相化学反应而沉积固体； ②可以在大气压（常压）或者低于大气压（低压）下进行沉积。一般说低压效果要好一些； ③采用等离子和激光辅助技术可以显著地促进化学反应，使沉积可在较低的温度下进行； ④镀层的化学成分可以改变，从而获得梯度沉积物或者得到混和镀层； ⑤可以控制镀层的密度和纯度； ⑥绕镀性好，可在复杂形状的基体上以及颗粒材料上镀制； ⑦气流条件通常是层流的，在基体表面形成厚的边界层； ⑧沉积层通常具有柱状晶结构，不耐歪曲。但通过各种技术对化学反应进行气相扰动，可以得到细晶粒的等轴沉积层； ⑨可以形成多种金属、合金、陶瓷和化合物层。
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考题
利用气态化合物（或化合物的混合物）在基体受热表面发生化学反应，并在该基体表面生成固态沉积物的技术称（）。A、物理气相沉积（PVD）B、物理气相沉积（CVD）C、化学气相沉积（VCD）D、化学气相沉积（CVD）
考题
单选题利用气态化合物（或化合物的混合物）在基体受热表面发生化学反应，并在该基体表面生成固态沉积物的技术称（）。A
物理气相沉积（PVD）B
物理气相沉积（CVD）C
化学气相沉积（VCD）D
化学气相沉积（CVD）
考题
问答题简述化学气相沉积的特点。
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