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为了保证PS版晒版质量,晒版原版上的网点密度不得低于()

  • A、2.3
  • B、2.2
  • C、2.1
  • D、2.0

参考答案

更多 “为了保证PS版晒版质量,晒版原版上的网点密度不得低于()A、2.3B、2.2C、2.1D、2.0” 相关考题
考题 不是影响晒版质量的原版因素的是:()。 A.网点与文字的黑度B.边缘虚晕度C.图文部位的灰雾度D.空白部分的灰雾度

考题 版基是印版图文的载体,起着支撑印刷图文的作用,而我们在平版晒版中所使用的PS版属于金属版基。

考题 不是影响晒版质量的原版因素的是:()。A、网点与文字的黑度B、边缘虚晕度C、图文部位的灰雾度D、空白部分的灰雾度

考题 阳图PS版晒版质量要求中间调部位网点缩小不超过多少合适()A、3%B、3.5%C、4%D、4.5%

考题 下列()项不属于影响曝光的主要因素。A、PS版感光版的质量B、分色片的网点密度C、PS版感光版的厚度D、晒版机光源

考题 当前,平版胶印中,PS版的制版流程是:()A、数字文件→激光照排→晒版→显影→冲洗B、数字文件→晒版→激光照排→显影→冲洗C、数字文件→激光照排→显影→晒版→冲洗D、数字文件→显影→冲洗→晒版→激光照排

考题 阳图型无水平版晒版时,使用的光源和阳图型PS版相同。

考题 晒版依据印版的种类可分为平凹版晒版和()A、阳图晒版B、反像晒版C、阴图晒版D、PS版晒版

考题 PS版晒版的基本工艺流程是什么?

考题 平版晒版时,PS版与底片药膜相对是为了()。A、防止不应曝光的部位曝光B、保证印版与底片密合C、减少曝光时间D、防止印版药膜发生化学反应

考题 如果用阳图原版晒版,那么所使用的PS版应为()。A、光分解型B、光聚合型C、光反射型

考题 简述阳图型PS版晒版的工艺流程。

考题 铝基PS版晒版后一般要涂显影墨和擦阿拉伯树胶。

考题 晒版光源光线不平行会造成()A、PS版的感光涂层光分解不均匀B、有效网点面积扩大C、PS版的感光涂层光分解不彻底D、有效网点面积的率度受影响

考题 用接触曝光的方法,将原版上的信息,转移到版材或其它感光材料上的过程叫()。A、烤版B、排版C、晒版D、分版

考题 阳图PS版晒版工艺流程包括()等工艺环节。A、照相B、装版C、显影冲洗D、提墨E、打样

考题 单选题阳图PS版晒版质量要求中间调部位网点缩小不超过多少合适()A 3%B 3.5%C 4%D 4.5%

考题 单选题为了保证PS版晒版质量,晒版原版上的网点密度不得低于()A 2.3B 2.2C 2.1D 2.0

考题 单选题下列()项不属于影响曝光的主要因素。A PS版感光版的质量B 分色片的网点密度C PS版感光版的厚度D 晒版机光源

考题 问答题简述阳图型PS版晒版的工艺流程。

考题 问答题PS版晒版的基本工艺流程是什么?

考题 单选题如果用阳图原版晒版,那么所使用的PS版应为()。A 光分解型B 光聚合型C 光反射型

考题 单选题不是影响晒版质量的原版因素的是:()。A 网点与文字的黑度B 边缘虚晕度C 图文部位的灰雾度D 空白部分的灰雾度

考题 单选题平版晒版时,PS版与底片药膜相对是为了()。A 防止不应曝光的部位曝光B 保证印版与底片密合C 减少曝光时间D 防止印版药膜发生化学反应

考题 不定项题当前,平版胶印中,PS版的制版流程是:()A数字文件→激光照排→晒版→显影→冲洗B数字文件→晒版→激光照排→显影→冲洗C数字文件→激光照排→显影→晒版→冲洗D数字文件→显影→冲洗→晒版→激光照排

考题 单选题用接触曝光的方法,将原版上的信息,转移到版材或其它感光材料上的过程叫()。A 烤版B 排版C 晒版D 分版

考题 单选题晒版依据印版的种类可分为平凹版晒版和()A 阳图晒版B 反像晒版C 阴图晒版D PS版晒版