当吸附器内的吸附剂,充分吸附了杂质以后,杂质界面最前沿的是()。 A、二氧化碳B、一氧化碳C、甲烷D、水分子

题目内容（请给出正确答案）

当吸附器内的吸附剂,充分吸附了杂质以后,杂质界面最前沿的是()。

A、二氧化碳

B、一氧化碳

C、甲烷

D、水分子

参考答案

考题造成吸附剂杂质超载的原因有()。 A、进料杂质超出规格要求B、每周期循环时间短C、每周期循环时间过长D、工艺阀门故障

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考题活性氧化铝作为一种辅助的吸附剂装在吸附器的底部,用来脱除进料中的()。 A、固体杂质B、微量水分C、芳烃D、二氧化碳

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考题吸附器的()和()是实现吸附剂()的重要操作。

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考题吸附设备应满足的基本要求是( )。A.在吸附器内，气体与吸附剂应有足够长的接触时间 B.吸附设备内应容纳一定数量的吸附剂，以保证必需的使用期 C.应便于更换吸附剂或使其再生 D.当气流中混有较高浓度的粉尘时，应在吸附器之前装设过滤器

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考题土壤样品有机萃取液净化是指通过物理的或化学的方法除去提取物中对测定有干扰作用的杂质的过程。柱层析法是应用最普遍的净化方法，其原理是将提取液中的目标有机物和杂质一起通过一支装有吸附剂的层析柱，它们即被吸附在具有表面活性的吸附剂上，然后用溶剂进行淋洗，以达到目标物与杂质分离的目的。

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考题 5、热氧化过程中杂质在SiO2/Si界面的浓度是突变的，这是由杂质引起的。（两个字）

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考题 10、施主型界面态主要是由引起的，受主型界面态主要是由引起的（）。A．悬挂键，晶格失配B．悬挂键及晶格失配，杂质C．杂质及悬挂键，晶格失配D．杂质，悬挂键及晶格失配

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考题热氧化过程中杂质在SiO2/Si界面的浓度是突变的，这是由杂质引起的。（两个字）

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考题 2、土壤样品有机萃取液净化是指通过物理的或化学的方法除去提取物中对测定有干扰作用的杂质的过程。柱层析法是应用最普遍的净化方法，其原理是将提取液中的目标有机物和杂质一起通过一支装有吸附剂的层析柱，它们即被吸附在具有表面活性的吸附剂上，然后用溶剂进行淋洗，以达到目标物与杂质分离的目的。

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