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金属烤瓷冠的制作,说法错误的是

A、全冠舌侧颈缘全用金属

B、金瓷结合处应避开咬合功能区

C、金瓷结合处呈斜面搭接

D、瓷覆盖区底层冠厚度至少0.5mm

E、瓷覆盖区瓷层空间不超过2mm


参考答案

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考题 因金属烤瓷全冠修复的基底冠厚度不均匀造成的后果是A.局部瓷层厚度过大,瓷体中心区排气差,增加瓷中气孔率,抗折力低B.瓷收缩引起底层冠变形,造成冠就位困难C.瓷层过薄,影响修复体的颜色层观感和半透明性D.金属底层冠表面不能产生均匀的氧化膜E.金瓷结合界面产生气泡而脱瓷

考题 因金属烤瓷全冠基底冠制作过薄造成的后果是A.局部瓷层厚度过大,瓷体中心区排气差,增加瓷中气孔率,抗折力低B.瓷收缩引起底层冠变形,造成冠就位困难C.瓷层过薄,影响修复体的颜色层观感和半透明性D.金属底层冠表面不能产生均匀的氧化膜E.金瓷结合界面产生气泡而脱瓷

考题 金属烤瓷全冠的基底冠表面形成尖锐棱角、尖嵴的后果是A.局部瓷层厚度过大,瓷体中心区排气差,增加瓷中气孔率,抗折力低B.瓷收缩引起底层冠变形,造成冠就位困难C.瓷层过薄,影响修复体的颜色层观感和半透明性D.金属底层冠表面不能产生均匀的氧化膜E.金瓷结合界面产生气泡而脱瓷

考题 金-瓷修复体中金属基底冠蜡型的要求,不正确的是A、蜡型的厚度应均匀一致B、表面应光滑无锐角C、表面呈凹陷状,利于金-瓷压缩结合D、金属衔接处应避开咬合功能区,防止瓷裂E、蜡型厚度应保证金属底冠为0.3mm厚度

考题 关于烤瓷基底冠的描述,错误的是A、支持瓷层B、与预备体紧密贴合C、金瓷衔接处为刃状D、金瓷衔接处避开咬合功能区E、为瓷层留出0.85~1.2mm间隙

考题 下列关于金属烤瓷冠基底冠的描述,哪一项是错误的A.有足够的厚度和强度支持瓷层B.与牙体适合性好C.金瓷衔接处避开咬合接触区D.金瓷衔接处为刃状E.唇面应该为瓷层留出0.85~1.2mm的间隙

考题 有关金属烤瓷桥基底支架蜡型叙述正确的是 ( ) A、厚度应均匀一致,防止过厚或局部过薄B、表面呈凹陷状,利于金-瓷压缩结合C、金属与瓷衔接处应有明显凹形肩台D、牙体有较大缺损,应恢复缺损并留出瓷层1.0~1.5mm厚度即可E、金瓷衔接处应避开咬合功能区

考题 烤瓷冠桥金属基底冠蜡型叙述正确的是A、2mm厚度B、表面呈凹陷状,利于金-瓷压缩结合C、切缘应成锐角D、厚度均匀一致,表面光滑圆钝E、金-瓷衔接处应在咬合功能区

考题 PFM全冠金-瓷结合部的设计应包括A.金属基底的厚度B.金-瓷衔接线的位置C.金-瓷结合线的外形D.金-瓷衔接处瓷层厚度E.金-瓷衔接处瓷层的外形

考题 以下关于金瓷冠基底冠的描述中错误的是A.与预备体密合度好 B.为瓷层提供支持和基础 C.金瓷衔接处的瓷层为刃状薄层覆盖 D.金瓷衔接处避开咬合区 E.唇面为瓷层留出0.85~1.2mm间隙

考题 金属烤瓷冠的制作,错误的说法是A.全冠舌侧颈缘全用金属 B.金瓷结合处应避开咬合功能区 C.金瓷结合处呈斜面搭接 D.瓷覆盖区底层冠厚度至少0.5mm E.瓷覆盖区瓷层空间不超过2mm

考题 以下关于金属烤瓷冠基底冠的描述中错误的是()A、应与预备体密合B、支持瓷层C、金瓷衔接处为刃状D、金瓷衔接处避开咬合区E、唇面为瓷层留出0.8~1.2mm间隙

考题 下列关于金属烤瓷冠基底冠的描述,哪一项是错误的()。A、有足够的厚度和强度支持瓷层B、与牙体适合性好C、金瓷衔接处避开咬合接触区D、金瓷衔接处为刃状E、唇面应该为瓷层留出0.85~1.2mm的间隙

考题 以下关于烤瓷基底冠的描述,哪项是错误的()A、支持瓷层B、与预备体紧密贴合C、金瓷衔接处为刃状D、金瓷衔接处避开咬合功能区E、为瓷层留出0.85~1.2mm间隙

考题 以下关于金瓷冠基底冠的描述错误的是()A、金瓷衔接处为刃状B、支持瓷层C、与预备体密合度好D、金瓷衔接处避开咬合区E、唇面为瓷层留出0.85~1.2mm的间隙

考题 以下关于金瓷冠基底冠的描述,错误的是()A、与预备体密合度好B、支持瓷层C、金瓷衔接处为刃状D、金瓷衔接处避开咬合区E、唇面为瓷层留出0.85~1.2mm间隙

考题 单选题以下关于金属烤瓷冠基底冠的描述中错误的是()A 应与预备体密合B 支持瓷层C 金瓷衔接处为刃状D 金瓷衔接处避开咬合区E 唇面为瓷层留出0.8~1.2mm间隙

考题 单选题以下关于金属烤瓷冠基底冠的描述中错误的是(  )。A 与预备体密合度好B 支持瓷层C 金瓷衔接处为刃状D 金瓷衔接处避开咬合区E 唇面为瓷层留出0.8~1.2mm间隙

考题 单选题以下关于金瓷冠基底冠的描述,错误的是()A 与预备体密合度好B 支持瓷层C 金瓷衔接处为刃状D 金瓷衔接处避开咬合区E 唇面为瓷层留出0.85~1.2mm间隙

考题 单选题下列关于金属烤瓷冠基底冠的描述,哪一项是错误的()。A 有足够的厚度和强度支持瓷层B 与牙体适合性好C 金瓷衔接处避开咬合接触区D 金瓷衔接处为刃状E 唇面应该为瓷层留出0.85~1.2mm的间隙

考题 单选题以下关于烤瓷基底冠的描述,哪项是错误的?(  )A 支持瓷层B 与预备体紧密贴合C 金瓷衔接处为刃状D 金瓷衔接处避开咬合功能区E 为瓷层留出0.85~1.2mm间隙

考题 单选题金-瓷修复体中金属基底冠蜡型的要求,不正确的是(  )。A 蜡型的厚度应均匀一致B 表面应光滑无锐角C 表面呈凹陷状,利于金—瓷压缩结合D 金属衔接处应避开咬合功能区,防止瓷裂E 蜡型厚度应保证金属底冠为0.3mm厚度