考题
喷施显像剂时，喷嘴离被检面距离为（）mm，喷洒方向与被检面夹角为30～40°。
考题
水基湿式显像剂中一般有表面活性剂，主要起润湿作用。
考题
直接目视检验时被检物表面应有足够的（），若（）不足时可使用各种（）辅助
考题
显像时间取决于显像剂的种类，预计的（）以及被检物的（）等因素
考题
检验透明材料使用人工光源辅助时的背景光源不得使被检物表面产生（）且其亮度应小于（）
考题
水基式显像剂中一般都有表面活性剂，它主要是起润湿作用的。
考题
使用磁场指示器时，应将其放在被检工件表面上，使镀铜一面靠近被检工件表面。
考题
采用照像记录被检物表面缺陷时，应注意在被检物上不妨碍察看缺陷的位置安放（）
考题
探伤结束后，为了防止残留的（）腐蚀被检表面或影响其使用，必要时应对其予以清除A、乳化剂B、显像剂C、渗透剂D、清洗剂
考题
显像时间取决于（）。A、使用的渗透剂种类B、使用的显像剂种类和缺陷的大小C、被检工件的温度D、以上都是
考题
表面清理是指清理被检物表面的（），预清洗是指清洗被检物表面的（）
考题
显像时间取决于（）A、所使用渗透液的类型B、所使用显像剂的类型和被检出缺陷的类型C、被检材料的温度D、所有上述内容
考题
非水湿显像操作中（）。A、采用较长时间的浸涂方式施加显像剂B、喷涂时，喷咀距被检表面不少于400mmC、必须揺动喷罐中的珠子，使显像剂搅拌均匀D、刷涂时，关键部件应往复刷涂多次
考题
清洗处理和去除处理是为了去除附着在被检物表面的残余（）A、乳化剂B、显像剂C、渗透剂D、以上各种
考题
使用水基显像剂时，被检物表面（）A、必须干燥B、必须潮湿C、干湿均可D、必须加热
考题
下列关于磁粉的叙述中，正确的是（）A、和被检表面形成高对比度B、与被检表面无对比度要求C、能粘附在被检物表面上D、具有高顽磁性
考题
填空题采用照像记录被检物表面缺陷时，应注意在被检物上不妨碍察看缺陷的位置安放（）
考题
单选题清洗处理和去除处理是为了去除附着在被检物表面的残余（）A
乳化剂B
显像剂C
渗透剂D
以上各种
考题
填空题表面清理是指清理被检物表面的（），预清洗是指清洗被检物表面的（）
考题
填空题检验透明材料使用人工光源辅助时的背景光源不得使被检物表面产生（）且其亮度应小于（）
考题
填空题直接目视检验时被检物表面应有足够的（），若（）不足时可使用各种（）辅助
考题
填空题喷施显像剂时，喷嘴离被检面距离为（）mm，喷洒方向与被检面夹角为30～40°。
考题
判断题水基湿式显像剂中一般都有表面活性剂，它主要是起润湿作用A
对B
错
考题
填空题显像时间取决于显像剂的种类，预计的（）以及被检物的（）等因素
考题
单选题探伤结束后，为了防止残留的（）腐蚀被检表面或影响其使用，必要时应对其予以清除A
乳化剂B
显像剂C
渗透剂D
清洗剂
考题
判断题使用磁场指示器时，应将其放在被检工件表面上，使镀铜一面靠近被检工件表面。A
对B
错
考题
单选题非水湿显像操作中（）。A
采用较长时间的浸涂方式施加显像剂B
喷涂时，喷咀距被检表面不少于400mmC
必须揺动喷罐中的珠子，使显像剂搅拌均匀D
刷涂时，关键部件应往复刷涂多次
