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在杨氏双缝干涉试验中,若用薄玻璃片盖住上缝,干涉条纹将()

  • A、上移
  • B、下移
  • C、不动
  • D、变密

参考答案

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考题 在双缝干涉实验中,用透明的云母片遮住上面的一条缝,则( )。A.干涉图样不变 B.干涉图样下移 C.干涉图样上移 D.不产生干涉条纹

考题 在双缝干涉实验中,若用透明的云母片遮住上面的一条缝,则干涉图样如何变化? A.干涉图样不变 B.干涉图样下移 C.干涉图样上移 D.不产生干涉条纹

考题 用白光做杨氏双缝实验,在屏幕上将看到彩色干涉条纹,若用纯红色滤光片遮住其中一缝,同时用纯蓝色滤光片遮住另一缝,则屏幕上(  )。A.干涉条纹的亮度发生改变 B.干涉条纹的宽度发生改变 C.产生红光和蓝光的两套彩色干涉条纹 D.不产生干涉条纹

考题 在杨氏双缝实验中,若用白光作光源,则干涉条纹的情况为( )。A.中央明纹是白色的 B.红光条纹较密 C.紫光条纹间距较大 D.干涉条纹为白色

考题 在双缝干涉实验中,若用透明的云母片遮住上面的一条缝,则(  )。A.干涉图样不变 B.干涉图样下移 C.干涉图样上移 D.不产生干涉条纹

考题 在杨氏双缝实验中,若用白光作光源,干涉条纹的情况为(  )。A.中央明纹是白色的 B.红光条纹较密 C.紫光条纹间距较大 D.干涉条纹为白色

考题 若用一片透明的云母片将杨氏双缝装置中的上面一条缝盖住,则( )。A.干涉条纹不变 B.干涉图样反差 C.干涉条纹上移 D.干涉条纹下移

考题 在双缝干涉实验中,若用透明的云母片遮住上面的一条缝,则()。A、干涉图样不变B、干涉图样下移C、干涉图样上移D、不产生干涉条纹

考题 在杨氏双缝干涉实验中,缝距为d,缝屏距为D,屏上干涉条纹的间距为Δy。现将缝距减小一半,则干涉条纹的间距为()

考题 在杨氏双缝实验中,若用白光作光源,则干涉条纹的情况为()。A、中央明纹是白色的B、红光条纹较密C、紫光条纹间距较大D、干涉条纹为白色

考题 在双缝干涉实验中,用透明的云母片遮住上面的一条缝,则()。A、干涉图样不变B、干涉图样下移C、干涉图样上移D、不产生干涉条纹

考题 在杨氏双缝干涉实验中,用一薄云母片盖住实验装置的上缝,则屏上的干涉条纹要向()移动,干涉条纹的间距()

考题 在杨氏双缝干涉试验中,如果波长变长,则()A、干涉条纹之间的距离变大B、干涉条纹之间的距离变小C、干涉条纹之间的距离不变D、干涉条纹变红

考题 若用一张薄云母片将杨氏双缝干涉试验装置的上缝盖住,则()A、条纹上移,但干涉条纹间距不变B、条纹下移,但干涉条纹间距不变C、条纹上移,但干涉条纹间距变小D、条纹上移,但干涉条纹间距变大

考题 在杨氏双缝实验中,若用白光作光源,干涉条纹的情况为()A、中央明纹是白色的B、红光条纹较密C、紫光条纹间距较大D、干涉条纹为白色

考题 在保持入射光波长和缝屏距离不变的情况下,将杨氏双缝的缝距减小,则()A、干涉条纹宽度将变大B、干涉条纹宽度将变小C、干涉条纹宽度将保持不变D、给定区域内干涉条纹数目将增加

考题 在杨氏双缝干涉实验中,如果光源缝慢慢张开,则()A、条纹间距减小B、干涉条纹移动C、可见度下降D、干涉条纹没有变化

考题 在杨氏双缝干涉实验中,用一个薄云母片盖住实验装置的上缝,则屏上的干涉条纹要向()移动,干涉条纹的间距()。

考题 在双缝干涉实验中,若用透明的云母片遮住上面的一条缝,则干涉图样如何变化?()A、干涉图样不变B、干涉图样下移C、干涉图样上移D、不产生干涉条纹

考题 单选题在双缝干涉实验中,若用透明的云母片遮住上面的一条缝,则()。A 干涉图样不变B 干涉图样下移C 干涉图样上移D 不产生干涉条纹

考题 单选题在双缝干涉实验中,若用透明的云母片遮住上面的一条缝,则干涉图样如何变化()?A 干涉图样不变B 干涉图样下移C 干涉图样上移D 不产生干涉条纹

考题 单选题在杨氏双缝干涉试验中,如果波长变长,则()A 干涉条纹之间的距离变大B 干涉条纹之间的距离变小C 干涉条纹之间的距离不变D 干涉条纹变红

考题 单选题在杨氏双缝干涉实验中,如果光源缝慢慢张开,则()A 条纹间距减小B 干涉条纹移动C 可见度下降D 干涉条纹没有变化

考题 单选题在杨氏双缝干涉试验中,若用薄玻璃片盖住上缝,干涉条纹将()A 上移B 下移C 不动D 变密

考题 填空题在杨氏双缝干涉实验中,用一个薄云母片盖住实验装置的上缝,则屏上的干涉条纹要向()移动,干涉条纹的间距()。

考题 填空题在杨氏双缝干涉实验中,用一薄云母片盖住实验装置的上缝,则屏上的干涉条纹要向()移动,干涉条纹的间距()

考题 单选题在杨氏双缝干涉实验中,如果用薄云母片盖住下缝,则干涉条纹将()。A 条纹上移,干涉条纹之间的距离不变B 条纹上移,干涉条纹之间的距离变小C 条纹下移,干涉条纹之间的距离不变D 条纹下移,干涉条纹之间的距离变大