关于正畸矫治的生物学基础与机理下列哪个是错误的()

A.颌骨的可塑性

B.牙骨质的抗压性

C.釉质的抗压性

D.牙周膜内环境的稳定性

头影测量平面中的基准平面包括()

A.牙合平面

B.前颅底平面

C.眼耳平面

D.Bolton平面

真空烤瓷炉对其温度参数和时间参数进行精密的控制。在使用中要求操作人员按严格的程序进行操作真空烤瓷炉的温度参数和时间参数主要包括A、预热温度，烤瓷温度，预热时间，烤瓷时间，最终温度持续时间

B、预热温度，烤瓷温度，预热时间，烤瓷时间，最终温度持续时间，真空烤瓷时间

C、现时温度，烤瓷温度，预热时间，烤瓷时间，最终温度持续时间，真空烤瓷时间

D、现时温度，最终温度，预热时间，升温时间，最终温度持续时间，真空烤瓷时间

E、现时温度，最终温度，预热时间，烤瓷时间，最终温度持续时间，真空烤瓷时间

在烤瓷过程中有一道工艺叫上釉，上釉有两种方法：自行上釉和分别上釉，其中自行上釉要求把烧好的瓷体在高于体瓷烧熔温度下保持数分钟，高于体瓷烧熔温度的范围是A、31～40℃

B、21～30℃

C、10℃以内

D、11～20℃

E、5℃

在烤瓷过程中不能使烤瓷件与炉膛内壁接触，如果接触，可能造成的最严重的后果是A、烤瓷失败

B、烤瓷失败，烤瓷件报废

C、烤瓷件与炉膛内壁发生粘连

D、炉膛报废

E、发热体损坏

请帮忙给出每个问题的正确答案和分析，谢谢！

正畸治疗牙齿移动的类型有()

A.整体移动

B.倾斜移动

C.控根移动

D.垂直移动

E.旋转移动

有关前磨牙组的外形特征中哪个是正确的?()

A.牙根为单根

B.邻面似三角形

C.颌面均有两个牙尖

D.下颌前磨牙颊尖低而圆钝，舌尖长而锐

E.牙冠有颊面、舌面、近中面、远中面及颌面五个面

颏孔多位于下颌什么牙齿的下方()

A.4

B.56

C.5或4～5

D.6

E.1

-1-MP角过大说明()

A.上颌中切牙唇倾

B.上颌中切牙舌倾

C.下颌中切牙唇倾

D.下颌中切牙舌倾

头影测量SNB角大说明()

A.上颌后缩

B.上颌前突

C.下颌前突

D.下颌后缩

正畸应用强支抗时，磨牙前移占去的间隙不超过拔牙间隙的()

A.四分之一

B.三分之一

C.二分之一

D.三分之二

E.四分之三

错颌畸形的矫治目标是()

A.理想正常颌

B.典型正常颌

C.功能正常颌

D.个别正常颌