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乳牙Ⅱ类洞何种情况下可制备成无台阶形复面洞（）
- A、乳牙接触点较近面时
- B、乳牙龈缘较近面时
- C、乳牙龋蚀较近面时
- D、乳牙龋蚀及龈缘较近面时
- E、乳牙接触点、龈缘或龋蚀较近面时
参考答案
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考题
龋洞的分类正确的是( )A.Ⅰ类洞：发生在局部牙面发育点隙裂沟的龋损所制备的洞形B.Ⅱ类洞：发生于前牙邻面的龋损所制备的洞形C.Ⅲ类洞：前牙邻面未累及切角的龋损所制备的洞形D.Ⅳ类洞：磨牙邻面累及切角的龋损所制备的洞形
考题
下列哪项是复合树脂充填洞形制备特点A.制备典型盒状洞形，设计良好固位形B.去净无基釉，洞缘角成直角C.无需去净无基釉，但要有良好的抗力形D.底平壁直，洞形达一定深度E.点线角圆滑，洞缘角应制备短斜面
考题
Ⅴ类洞的制备要点，不妥的是A、Ⅴ类洞是开放的洞，不易制备抗力形和固位形，需制作针道B、Ⅴ类洞是一种简单的洞C、Ⅴ类洞制备较容易，但需要一定的固位形D、Ⅴ类洞不承受咀嚼压力，因此对抗力形的要求不高E、备洞时常把Ⅴ类洞的外形作成肾形或半圆形
考题
根据G．V．Black的窝洞分类方法，下列哪句话是正确的A．Ⅰ类洞都是单面洞B．Ⅱ类洞都是复面洞C．Ⅰ类洞是后牙窝沟点隙龋坏所制备的洞形D．Ⅲ类洞是前牙邻面未损伤切角的龋坏所制备的洞形E．Ⅴ类洞是后牙唇(颊)舌(腭)面近龈1/3处破坏所制备的洞形
考题
乳磨牙制备银汞洞型时，哪项不正确A．牙合面窝沟龋局限时可制备独立圆形洞型，不必扩展B．单面洞邻壁过薄可制备Ⅱ类洞形C．为避免意外穿髓不必强调底平D．洞要有一定深度，线角要圆钝E．乳牙不用恢复咬合高度和接触点
考题
乳牙的嵌体修复法适用于
A.乳磨牙Ⅰ类复合洞形和Ⅱ类复合洞形
B.乳磨牙Ⅱ类复合洞形和Ⅲ类复合洞形
C.乳磨牙Ⅲ类复合洞形和Ⅳ类复合洞形
D.乳磨牙Ⅳ类复合洞形和Ⅴ类复合洞形
E.乳磨牙Ⅴ类复合洞形和Ⅰ类复合洞形
考题
乳磨牙龋坏制备洞形时，哪项不正确A.面窝沟龋局限时可制备独立圆形洞形，不必扩展
B.单面洞邻壁过薄可制备Ⅱ类洞形
C.为避免意外穿髓不必强调底平
D.窝洞要有一定深度，线角要圆钝
E.乳牙不用恢复咬合高度和接触点
考题
下列哪项是复合树脂充填洞形制备特点（）A、制备典型盒状洞形，设计良好固位形B、去净无基釉，洞缘角成直角C、无需去净无基釉，但要有良好的抗力形D、底平壁直，洞形达一定深度E、点线角圆滑，洞缘角应制备短斜面
考题
复合树脂充填洞形制备特点（）A、底平壁直，洞形必须达到一定的深度B、点线角应圆滑，洞缘角应制备短斜面C、应制备典型的箱状洞，并设计良好的固位形D、洞缘角应成直角，不宜在洞缘角制备短斜面E、无需去净无基釉，但要有良好的抗力形
考题
乳磨牙制备银汞洞型时，哪项不正确（）A、面窝沟龋局限时可制备独立圆形洞型，不必扩展B、单面洞邻壁过薄可制备Ⅱ类洞形C、为避免意外穿髓不必强调底平D、洞要有一定深度，线角要圆钝E、乳牙不用恢复咬合高度和接触点
考题
单选题V类洞的制备要点，不妥的是（ ）。A
V类洞是开放的洞，不易制备抗力形和固位形，需制作针道B
V类洞是一种简单的洞C
V类洞制备较容易，但需要一定的固位形D
V类洞不承受咀嚼压力，因此对抗力形的要求不高E
备洞时常把V类洞的外形作成肾形或半圆形
考题
单选题复合树脂充填洞形制备特点（）A
底平壁直，洞形必须达到一定的深度B
点线角应圆滑，洞缘角应制备短斜面C
应制备典型的箱状洞，并设计良好的固位形D
洞缘角应成直角，不宜在洞缘角制备短斜面E
无需去净无基釉，但要有良好的抗力形
考题
单选题根据Black GV的窝洞分类方法，下列哪项是正确的？（ ）A
I类洞是单面洞B
Ⅱ类洞是复杂洞C
I类洞是后牙窝沟点隙龋坏所制备的洞形D
Ⅲ类洞是前牙邻面未损伤切角的龋坏所制备的洞形E
V类洞是后牙唇颊侧舌腭面近龈1/3处被破坏所制备的洞形
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