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化工化学水装置原水低硅水中含量较高的阴离子有四种，分别为（）。

  • A、HCO3-、CL-、SO42-、HSiO3-
  • B、HCO3-、CL-、SO42-、CO32-
  • C、HCO3-、CO32-、CL-、NO3-
  • D、HCO3-、CO32-、SO42-、HSiO3-

参考答案

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考题 地层水的氯离子含量特点() A、地层水氯离子含量高，每升可达数万微升;B、地层水中凝析水、泥浆水、地面水的氯离子含量较低，残酸水的氯离子含量较高，外来水的氯离子含量视水的来源而定，可能高也可能低;C、地层水氯离子含量低，每升只有几千微升;D、地层水中凝析水、泥浆水、地面水、残酸水的氯离子含量较高，外来水的氯离子含量视水的来源而定，可能高也可能低;
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考题 化工化学水装置，混床出水二氧化硅含量应20μg/L。
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考题 化工化学水装置是采用（）稀释再生剂来进行床体再生的。A、低硅水B、酸性水C、一级除盐水D、二级除盐水
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考题 当原水碱度较高，化学除盐宜采用强酸阳离子一除碳一弱碱阴离子一强碱阴离子系统处理。（）
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考题 当原水中（）含量较高时，应先对原水进行氯化处理。
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考题 化工化学水装置原水低硅水中含量较高的阳离子有四种，分别为（）。A、Na+、Fe2+、Ca2+、Mg2+B、Na+、K+、Ca2+、Mg2+C、Na+、K+、Fe2+、Ca2+D、Na+、K+、Ca2+、Cu2+
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考题 化工化学水装置采用原水低硅水稀释再生剂用于床体再生。
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考题 化工化学水装置回收工艺冷凝水来水二氧化硅含量应≤200ug/L。
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考题 采用锅内加药处理时，如果原水中硅含量较高，宜采用的措施是（）。A、保持较高的锅水碱度（标准内）B、适当增加磷酸盐用量C、选用腐植酸钠或有机水质稳定剂D、保持较高的锅炉排污率
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考题 单选题采用锅内加药处理时，如果原水中硅含量较高，宜采用的措施是（）。A 保持较高的锅水碱度（标准内）B 适当增加磷酸盐用量C 选用腐植酸钠或有机水质稳定剂D 保持较高的锅炉排污率
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考题 填空题当原水中（）含量较高时，应先对原水进行氯化处理。
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