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PMOS管的衬底电位可以直接加在器件所在的N型阱区上。


参考答案和解析
错误
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考题 晶体二极管实际上是把一个PN结两端加上引线的半导体器件,其中()。 A、P区为正,N区为负B、N区为正,P区为负C、P区、N区皆为负D、P区、N区皆为正

考题 MOS器件的基本结构有N沟道和P沟道两种,也就有NMOS和PMOS逻辑门电路两种。() 此题为判断题(对,错)。

考题 由下列器件构成的模拟开关中,导通电阻最低的是( )。A.CMOS场效应管B.PMOS场效应管C.NMOS场效应管D.二簧继电器

考题 通常,一个线性排列的CCD元件有P型硅衬底和许多电极组成,在铝电极和硅衬底之间有一层二氧化硅,电极上存在高电位时将形成耗尽区,这是()的结果。A、空穴移向衬底深处B、空穴移向二氧化硅层C、电子移向二氧化硅层D、电子移向衬底层深处

考题 二极管符号中的箭头总是().A、由N区指向P区B、由P区指向N区C、由高电位指向低电位D、由低电位指向高电位

考题 对于绝缘栅场效应管,无论增强型还是耗尽型,只要是N沟道器件,UDS应为负值,衬底接最低电位,UGS越向正值方向增大,硒越小

考题 PN结呈现正向导通的条件是:()A、P区电位低于N区电位B、N区电位低于P区电位C、P区电位等于N区电位D、都不对

考题 在CMOS电路中,通常包含两个增强型的PMOS管,一个作为驱动管,一个作为负载管。

考题 场效应管属于()型器件,而双极型半导体三极管则可以认为是()型器件。

考题 衬底为N型硅片的MOS管就是N沟道MOS场效应管。

考题 下列场效应管中,无原始导电沟道的为()。A、N沟道JFETB、增强~AIPMOS管C、耗尽型NMOS管D、耗尽型PMOS管

考题 问答题在制作晶体管的时候,衬底材料电阻率的选取对器件有何影响?

考题 单选题按照衬底材料不同,硅光电二极管分为2CU和2DU两种系列。它们主要有两个不同点:请选择正确的答案()A 2CU是以N-Si为衬底,2DU是以P-Si为衬底;2CU型管还设了一个环极;B 2CU是以P-Si为衬底,2DU是以N-Si为衬底,2CU型管还设了一个环极;C 2CU是以N-Si为衬底,2DU是以P-Si为衬底,2DU型管还设了一个环极;D 2CU是以P-Si为衬底,2DU是以N-Si为衬底,2DU型管还设了一个环极。

考题 多选题结型红外探测器件种类有()。A同质结B异质结C肖特基结D雪崩管E量子阱

考题 问答题为什么在相同工艺条件和相同几何尺寸下NMOS管速度要高于PMOS管?如果相同栅长的N管和P管要达到相同的速度,理论上N管和P管要满足什么条件?

考题 填空题在P型衬底上画nmos器件时需要在P型衬底上加(),并用金属线把这个()与P型衬底内的()电位相连接。

考题 判断题对于N型衬底的单井CMOS工艺,NMOS的衬底应该接到高电位上。A 对B 错

考题 填空题在nwell上画pmos器件时需要在nwell上加(),并用金属线把这个()与nwell内的()电位相连接。

考题 单选题NMOS器件的衬底是()型半导体。A N型B P型C 本征型D 耗尽型

考题 判断题NMOS是在N阱上形成P沟道的MOSFET晶体管。A 对B 错

考题 问答题CMOS工艺是如何在一种衬底材料上实现不同类型场效应晶体管的?阱有几种类型?每种类型可制作什么类型的场效应管?

考题 单选题关于N型半导体的下列说法,正确的是()。A 只存在一种载流子:自由电子B 在二极管中,N型半导体一侧接出引线后,是二极管的正极C 在纯净的硅衬底上,分散三价元素,可形成N型半导体D 在PNP型的晶体管中,基区正是由N型半导体构成

考题 判断题PMOS是在N阱上形成P沟道的MOSFET晶体管。A 对B 错

考题 单选题NMOS是在()阱形成的()沟道的MOSFET晶体管。A P阱,P沟B P阱、N沟C N阱、N沟D N阱、P沟

考题 填空题PMOS是在()上形成P型沟道的MOSFET晶体管。

考题 单选题通常,一个线性排列的CCD元件有P型硅衬底和许多电极组成,在铝电极和硅衬底之间有一层二氧化硅,电极上存在高电位时将形成耗尽区,这是()的结果。A 空穴移向衬底深处B 空穴移向二氧化硅层C 电子移向二氧化硅层D 电子移向衬底层深处

考题 问答题在制作晶体管的时候,衬底材料电阻率的选取对器件有何影响是?

考题 填空题N沟道MOSFET的衬底是()型半导体,源区和漏区是()型半导体,沟道中的载流子是()。