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薄膜材料的制备方法从具体方式上分为物理方法和化学方法两类。
参考答案和解析
以蒸发沉积为基础发展了电子束蒸发沉积、分子束外延薄膜生长（MBE）、加速分子束外延生长； 以载能束与固体相互作用为基础，先后出现了离子束溅射沉积、脉冲激光溅射沉积（PLD）、强流离子束蒸发沉积、离子束辅助沉积（IBAD）、低能离子束沉积； 以等离子体技术为基础发展了等离子体增强化学气相沉积（PECVD）、磁控溅射沉积等。 物理方法：真空蒸发沉积磁控溅射法离子束溅射沉积脉冲激光沉积（PLD）分子束外延（MBE） 化学方法：化学气相沉积（CVD）溶胶－凝胶法（Sol－Gel法）电沉积液相外延（LPE）化学束外延。
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