考题
二甲苯精馏塔塔顶C8A中C9A含量高，塔底联产OX时，其中的MX、EB、PX含量偏高的可能原因是（）。A、回流比低B、进料组成变化大C、塔底液位变化大D、灵敏板温度计发生了故障
考题
影响模拟移动床工艺中产品PX收率的区域是（）。A、吸附、解吸区B、吸附、精制区C、精制区、解吸区D、精制、缓冲区
考题
产品PX中只有非芳烃含量高的原因是（）。A、Ⅳ区回流比负值低B、异构化、重整或者歧化装置进料中的轻质非芳含量高C、无法确定D、Ⅳ区回流比负值高
考题
产品PX中只有EB含量超过合同保证值的常见原因是（）。A、吸附剂的水含量偏低B、吸附精制区回流比偏低C、吸附剂的性能下降D、原料中的乙苯含量提高以后没有及时调高吸附精制区回流比
考题
增加塔T3101顶部回流比，可以提高精制己烷产品质量。
考题
环氧乙烷精制塔塔顶馏分中重组分含量增加时应（）。A、减小回流比B、增大回流比C、增加塔釜再沸器蒸汽量D、增加产品采出量
考题
循环苯塔塔釜采出苯含量高，可以通过提高循环苯塔灵敏板温度并增加冷苯加入量的方法来解决。
考题
在精馏操作中，可以通过（）的方法来提高塔顶压力。A、增加冷却剂或增大回流比B、增加冷却剂或减小回流比C、减小冷却剂或增大回流比D、减小冷却剂或减小回流比
考题
若PX产品中EB较高，造成的因素是（）。A、精制区流量偏小B、吸附区流量偏小C、隔离区流量偏小D、解吸区流量偏小
考题
模拟移动床工艺中，产品PX中NA含量高时，应（）。A、提高精制区回流比B、提高缓冲区回流比C、精制区、缓冲区都提高D、降低缓冲区回流比
考题
循环解吸剂中C8A含量超标将导致产品PX中的MX、OX、EB含量升高甚至不合格，因此产品PX中的MX、OX、EB一定与解吸剂遭受MX、OX、EB污染有关。（）
考题
如果产品PX中只有乙苯含量高，提高精制区回流比，总能降低产品PX中的乙苯含量。（）
考题
产品PX中只有MX含量上升显著且产量没有下降的可能原因是（）。A、原料中的水含量偏高B、缓冲区回流比偏高C、吸附剂的注水量低D、原料中的水含量高
考题
如果抽出液塔塔顶粗PX中PDEB增加，而塔底PDEB中PX小于控制指标，则应当（）。A、提高灵敏板温差设定B、降低灵敏板温差设定C、提高回流比D、降低回流比
考题
产品PX中只有NA含量超过合同保证值的原因是（）。A、原料中的非芳烃含量高B、缓冲区回流比偏高C、缓冲区回流比偏低D、成品塔灵敏板温度偏低
考题
产品PX中只有MX含量上升显著且产量明显下降是由于吸附剂注水量高引起的。（）
考题
产品PX中只有NA含量超过合同保证值是由于缓冲区不恰当的回流比造成的。（）
考题
产品PX中MX含量上升显著且单程收率明显下降，下列描述中正确的是（）。A、原料中的MX含量高B、吸附剂注水量高C、吸附剂注水量低D、缓冲区回流比偏高
考题
产品PX中只有MX含量高可以通过降低缓冲区回流比的方法来解决。（）
考题
在模拟移动床工艺中，只要产品PX在吸附区被完全吸附，那么产品PX单程收率低的原因就是解吸区回流比偏低。（）
考题
模拟移动床工艺中，影响吸附分离装置产品PX纯度的区域是（）。A、吸附、精制区B、吸附、解吸区C、精制区、缓冲区D、精制、解吸区
考题
模拟移动床工艺中，产品PX中EB含量高时，应（）。A、提高精制区回流比B、提高缓冲区回流比C、精制区、缓冲区都提高D、降低缓冲区回流比
考题
抽出液塔回流温度高，会导致抽出液塔顶产品粗PX中C9A含量增加甚至超标。（）
考题
成品塔塔底PX中的EB含量高，其余各项指标均正常的可能原因是（）。A、Ⅱ区回流比低B、吸附剂水含量低C、吸附剂中水含量高D、泵送循环流量偏低
考题
模拟移动床中，产品PX中的乙苯含量高是由于过低的Ⅱ区回流比造成的。（）
考题
成品塔塔底物料PX中检测不到甲苯，塔顶物料中PX含量超标的原因是（）。A、进料中的PX含量高B、进料中的PX含量低C、成品塔灵敏板温度或者温差设定值高D、精馏塔回流温度偏高
考题
产品PX中MX含量上升显著的可能原因是（）。A、原料中的MX含量高B、吸附剂注水量高C、吸附剂注水量低D、缓冲区回流比偏高
