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合成催化剂还原的三低是()

  • A、低水汽浓度
  • B、低压力
  • C、低氨冷温度
  • D、低氢

参考答案

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考题 E-A-B-003374低变催化剂还原时,应在()的工艺条件下进行,以防止超温烧结。 A、低空速B、低氢浓度C、低床层温度D、高床层温度

考题 升温还原控制原则()。 A.三低:低温出水、低氢还原、还原后有一个低负荷生产期B.三稳:提温稳、补氢稳、出水稳。C.三不准:提温提氢不准同时进行;水分不准带入合成塔;不准长时间高温出水D.三控制:控制补H2速度;控制CO2浓度;控制出水速度

考题 新氢管网对新氢压缩机的影响() A、新氢管网压力低,新氢压缩机出口压力低B、新氢管网温度高,新氢压缩机出口温度高C、新氢管网压力低,新氢压缩机出口温度高D、新氢管网温度低,新氢压缩机出口温度低

考题 温度越(),压力越(),平衡氨含量越高。A、低、高B、高、高C、低、低D、高、低

考题 催化剂升温还原的原则是()。A、高空速B、高氢C、高电炉D、低水汽浓度

考题 异构化反应PX转化率低的原因是()。A、反应温度低B、反应压力低C、催化剂活性低D、反应的氢油比低

考题 氨合成催化剂升温还原操作过程中要坚持的“三高、四低”还原原则是?

考题 合成工序的氨冷系统依温度分为三级,各级闪蒸罐()。A、压力愈高,温度愈低B、压力愈低,温度愈高C、压力愈高,温度愈高D、A与B都对

考题 氨合成催化剂还原时,水汽浓度与()有关A、温度B、压力C、空速D、成份

考题 氨合成催化剂还原时,出塔水汽浓度与温度、压力、空速有关。()

考题 合成催化剂床层炉温下降的原因是什么,正确的是()A、氨冷温度低B、透平机出口开度过小C、氢氮比不合格D、气氨压力低

考题 合成高串低的事故现象是氨分、冷交液位低,放氨压力波动大,安全阀起跳。

考题 低变催化剂还原初期氢浓度应为()A、0.1%~0.5%B、1%C、1.0%~5.0%D、2%

考题 转化催化剂还原时,水氢比过高,会造成()。A、催化剂过度还原B、催化剂总体还原率达不到要求C、上层催化剂还原率低D、下层催化剂还原率低

考题 低变催化剂还原中期,至接近还原末期的入口氢浓度,不宜大于()A、0.5%B、2%C、10%D、20%

考题 低变催化剂还原时,应在()的工艺条件下进行,以防止超温烧结A、低空速B、低氢浓度C、低床层温度D、高床层温度

考题 低变催化剂还原温度调节。

考题 低变催化剂还原结束标准之一,是低变反应器()无耗氢A、入口B、催化剂还原C、循环气D、出口

考题 氢对氨合成塔塔壁的腐蚀会引起设备的脆裂而损坏,()氢蚀越严重。A、温度越高、压力越高B、温度越低、压力越高C、温度越低、压力越低D、温度越高、压力越低

考题 触媒还原过程中三低()。A、低温出水B、低氢还原C、还原后有一个低负荷生产期D、高温出水

考题 甲醇合成催化剂升温还原中,下面哪一项不属于“三低”内容()A、低温出水B、低氢还原C、升温结束后有一个低负荷生产期D、低速升温

考题 三低:低温出水、低氢还原、还原后有一个低负荷生产期。()

考题 铜基催化剂还原的方法有()A、低氢还原法、无氢还原法B、低氢还原法、高氢还原法C、高氢还原法、高氢还原法

考题 脱异丁烷塔顶温度高的原因有()。A、塔底温度低B、塔压力低C、进料温度低D、冷后温度低

考题 升温还原控制原则()。A、三低:低温出水、低氢还原、还原后有一个低负荷生产期B、三稳:提温稳、补氢稳、出水稳C、三不准:提温提氢不准同时进行;水分不准带入合成塔;不准长时间高温出水D、三控制:控制补H2速度;控制CO2浓度;控制出水速度

考题 单选题合成工序的氨冷系统依温度分为三级,各级闪蒸罐()。A 压力愈高,温度愈低B 压力愈低,温度愈高C 压力愈高,温度愈高D A与B都对

考题 单选题脱异丁烷塔顶温度高的原因有()。A 塔底温度低B 塔压力低C 进料温度低D 冷后温度低