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二氧化硅层中的钠离子可能来源于（）。

  • A、玻璃器皿
  • B、高温器材
  • C、人体沾污
  • D、化学试剂
  • E、去离子水

参考答案

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考题 矿尘中对人体危害最大的成分是()。 A、二氧化硅B、游离二氧化硅C、氯化钾
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考题 实验室常用干烤法灭菌的器材是( )。A、手术刀、剪B、玻璃器皿C、滤菌器D、移液器头E、橡皮手套
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考题 实验室常用干烤法灭菌的器材是A、玻璃器皿B、移液器头C、滤菌器D、手术刀、剪E、A+C
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考题 高温燃烧中和法测定全硫时，煤样于燃烧舟中并盖上一层（）A.三氧化钨B.二氧化硅C.三氧化铬D.三氧化铁
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考题 被有机物质严重沾污的玻璃器皿可置于()的高温炉中加热15～30min。A.100℃B.200℃C.300℃D.400℃
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考题 玻璃器皿除热原可采用 ( ) A.高温法B.蒸馏法C.吸附法D.酸碱法SX 玻璃器皿除热原可采用 （ ）A.高温法B.蒸馏法C.吸附法D.酸碱法E.凝胶过滤法
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考题 能够去除玻璃器皿中热原的方法有A.高温法B.酸碱法C.超滤法D.吸附法E.反渗透法
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考题 哪些玻璃器皿不宜高温烘干或烤干？
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考题 金属器材、玻璃器皿可用压力蒸汽和干热灭菌的方法，适用于耐高温、高湿的器械和物品的灭菌。
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考题 关于脱氢注水下列说法正确的是（）。A、去离子水的温度在沸点以下，凝固点以上B、不断有氮气充入去离子水中C、注水的位置在进料换热器热侧的出口D、去离子水是经钠离子置换钙、镁离子的
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考题 分析工作者可能引入的沾污：香烟可能带来的沾污元素为（）。A、铅B、铁C、钾D、氯离子E、锌
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考题 在分析实验室常用的去离子水要求的检测项目是（）。A、PH值B、电导率C、二氧化硅D、COD
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考题 去离子水中的阳离子主要是（）。A、氢离子B、钙离子C、镁离子D、钠离子
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考题 在放射性同位素示踪注水剖面测井中，示踪剂与油管内外壁、配水器等易形成沾污。按形成的机理，沾污可主要分为（）两大类。A、油管沾污和接箍沾污B、偏心沾污和配水器沾污C、吸附沾污和沉淀沾污D、封隔器沾污和套管沾污
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考题 射孔施工中，射孔层段温度在（）℃以下，使用常温射孔器材；在（）℃之间，使用普通高温射孔器材；在（）℃之间使用超高温射孔器材。
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考题 射孔施工中，射孔层段温度在120℃以下，使用常温射孔器材；在120-160℃之间，使用普通高温射孔器材；在（）℃之间使用超高温射孔器材。
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考题 低温淀积二氧化硅生长温度低、制作方便，但膜不够致密，耐潮性和抗离子沾污能力较差。（）
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考题 解决氧化层中的钠离子沾污的方法有（）。A、加强工艺操作B、加强人体和环境卫生C、使用高纯化学试剂、高纯水和超净设备D、采用HCl氧化工艺E、硅片清洗后，要充分烘干，表面无水迹
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考题 手脚沾污仪不可以对人体各部位进行（）污染扫描测量。A、αB、βC、γD、α+β
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考题 试分析过热器沾污及高温腐蚀原因及减轻（或防止）过热器沾污及高温腐蚀的主要方法？
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考题 人体中钾离子含量大于钠离子。
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考题 外封堵漏器材的维护保养不包括（）A、经常检查减压阀，是否能达到规定的压力B、避免与火源接触，防潮，防止破损，避免高温C、严禁沾污油脂，避免日光直接照射，以免橡胶垫老化，橡胶件制品长期不使用应涂上一层滑石粉，使用前，用清水洗清即可D、保持干燥
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考题 判断题采集、分析氯化氢样品后的玻璃器皿、连接管等，直接用去离子水洗涤，不要用自来水洗涤（）A 对B 错
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考题 单选题外封堵漏器材的维护保养不包括（）A 经常检查减压阀，是否能达到规定的压力B 避免与火源接触，防潮，防止破损，避免高温C 严禁沾污油脂，避免日光直接照射，以免橡胶垫老化，橡胶件制品长期不使用应涂上一层滑石粉，使用前，用清水洗清即可D 保持干燥
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考题 问答题试分析过热器沾污及高温腐蚀原因及减轻（或防止）过热器沾污及高温腐蚀的主要方法？
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考题 多选题分析工作者可能引入的沾污：香烟可能带来的沾污元素为（）。A铅B铁C钾D氯离子E锌
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考题 判断题金属器材、玻璃器皿可用压力蒸汽和干热灭菌的方法，适用于耐高温、高湿的器械和物品的灭菌。A 对B 错
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