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为避免EDI组件浓水中离子过度积累,需要将部分浓水排放。排放量为纯水流量10~20%,排放掉的浓水由EDI()补充。

  • A、浓水
  • B、极水
  • C、淡水
  • D、给水

参考答案

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考题 EDI运行时,浓水排放量不低于()m³/h。 A.0.5B.1.0C.1.5

考题 当EDI装置浓水排放量过低时,会引起系统在自动状态下不能运行() 此题为判断题(对,错)。

考题 为避免EDI组件浓水中离子浓度过度积累,需要将部分浓水排放。排放量为纯水流量10~20%,排放掉的浓水由EDI()补充。A.浓水B.极水C.淡水D.进水

考题 EDI系统在运行过程中,为避免浓水中离子过度积累,需要将部分浓水排放掉。A对B错

考题 EDI模块内部树脂再生过程,是通过在短时间内大幅度地改变系统(),将树脂中多余的离子从淡水室迁移到浓水室,从而被浓水带出EDI组件。A进水水质B浓水循环量C加盐量D操作参数

考题 为了保证EDI组件内部泄漏不影响纯水水质,产品水出口压力应当比()压力高。A浓水出口B极水出口C给水D浓水和极水出口

考题 在EDI组件中,带负电荷的阴离子被正极吸引而通过阴离子交换膜,进入到邻近的浓水室中。A对B错

考题 EDI模块内部树脂再生过程,是通过在短时间内大幅度地改变系统操作参数,将树脂中多余的离子从浓水室迁移到极水室,从而被浓水带出EDI组件。A对B错

考题 为避免EDI组件浓水中离子过度积累,需要将部分浓水排放。排放量为纯水流量10~20%,排放掉的浓水由EDI产品水补充。A对B错

考题 EDI组件在运行过程中,浓水循环可以增加的浓水室导电性,同时提高浓水的流速有助于避免水垢的沉积。A对B错

考题 为避免EDI组件浓水中离子过度积累,需要将部分浓水排放。排放量为纯水流量10~20%,排放掉的浓水由EDI产品水补充。

考题 EDI组件在运行过程中,浓水循环可以增加的浓水室导电性,同时提高浓水的流速有助于避免水垢的沉积。

考题 在EDI组件中,带正电荷的阳离子被正极吸引而通过阳离子交换膜,进入到邻近的浓水室中。

考题 EDI组件中用网状物将每个EDI单元隔开,形成()A、给水室B、淡水室C、极水室D、浓水室

考题 EDI组件在运行过程中,浓水循环可以增加的浓水室导电性,同时提高浓水的流速有助于()。A、避免水垢的沉积B、降低给水电导率C、降低产品水电导率D、降低模块的电流

考题 EDI系统在运行过程中,为避免浓水中离子过度积累,需要将部分浓水排放掉。

考题 EDI模块内部树脂再生过程,是通过在短时间内大幅度地改变系统操作参数,将树脂中多余的离子从浓水室迁移到极水室,从而被浓水带出EDI组件。

考题 EDI组件给水电导率低时,模块的电流较小,这样会影响产品水水质。这时可以选择()来提高电导率。A、增加浓水排放量B、减少浓水循环量C、加盐D、增加极水排放量

考题 单选题EDI组件给水电导率低时,模块的电流较小,这样会影响产品水水质。这时可以选择()来提高电导率。A 增加浓水排放量B 减少浓水循环量C 加盐D 增加极水排放量

考题 判断题EDI模块内部树脂再生过程,是通过在短时间内大幅度地改变系统操作参数,将树脂中多余的离子从浓水室迁移到极水室,从而被浓水带出EDI组件。A 对B 错

考题 单选题EDI模块内部树脂再生过程,是通过在短时间内大幅度地改变系统(),将树脂中多余的离子从淡水室迁移到浓水室,从而被浓水带出EDI组件。A 进水水质B 浓水循环量C 加盐量D 操作参数

考题 判断题EDI系统在运行过程中,为避免浓水中离子过度积累,需要将部分浓水排放掉。A 对B 错

考题 单选题EDI组件在运行过程中,浓水循环可以增加的浓水室导电性,同时提高浓水的流速有助于()。A 避免水垢的沉积B 降低给水电导率C 降低产品水电导率D 降低模块的电流

考题 判断题为避免EDI组件浓水中离子过度积累,需要将部分浓水排放。排放量为纯水流量10~20%,排放掉的浓水由EDI产品水补充。A 对B 错

考题 判断题在EDI组件中,带负电荷的阴离子被正极吸引而通过阴离子交换膜,进入到邻近的浓水室中。A 对B 错

考题 判断题EDI组件在运行过程中,浓水循环可以增加的浓水室导电性,同时提高浓水的流速有助于避免水垢的沉积。A 对B 错

考题 单选题为避免EDI组件浓水中离子过度积累,需要将部分浓水排放。排放量为纯水流量10~20%,排放掉的浓水由EDI()补充。A 浓水B 极水C 淡水D 给水