考题
光学镜片表面耐磨损膜的处理方法主要是()。
A.提升法B.真空电镀法C.阴极溅射法D.离子镀法
考题
（）是与气体辉光放电现象密切想关的一种薄膜淀积技术。A、蒸镀B、离子注入C、溅射D、沉积
考题
（）是通过把被蒸物体加热，利用被蒸物在高温时的饱和蒸汽压来进行薄膜沉积的。A、蒸镀B、溅射C、离子注入D、CVD
考题
用真空蒸发与溅射法在硅片或二氧化硅膜上涂敷金属材料，是形成电极的（）。A、重要步骤B、次要步骤C、首要步骤D、不一定
考题
用高能粒子从某种物质的表面撞击出原子的物理过程叫（）。A、蒸镀B、离子注入C、溅射D、沉积
考题
简述真空掩膜蒸镀技术实现红绿蓝像素并置全彩色方案的工艺流程。
考题
简述溅射成膜的原理，并举例说明哪种薄膜采用溅射方法成膜。
考题
光学镜片表面耐磨损膜的处理方法主要是（）。A、提升法B、真空电镀法C、阴极溅射法D、离子镀法
考题
镜片表面镀加硬膜层时，镜片从涂膜液中提取后下一步进行（）。A、正离子轰击溅射镀膜B、冷却C、在100℃左右的烘箱中聚合4～5小时D、进行凝胶化处理
考题
（）方法是大规模集成电路生产中用来沉积不同金属的应用最为广泛的技术。A、蒸镀B、离子注入C、溅射D、沉积
考题
升膜蒸发器、降膜蒸发器和刮膜蒸发器都属于真空蒸发设备。
考题
单选题光学镜片表面耐磨损膜的处理方法主要是（）。A
提升法B
真空电镀法C
阴极溅射法D
离子镀法
考题
问答题简述升降膜式真空蒸发浓缩设备的原理和特点。
考题
判断题树脂镜片镀耐磨损膜采用的是阴极溅射法。A
对B
错
考题
问答题简述生物膜法和活性污泥法的区别，及优缺点。
考题
问答题以铝互连系统作为一种电路芯片的电连系统时，若分别采用真空蒸镀和磁控溅射工艺淀积铝膜，应分别从哪几方面来提高其台阶覆盖特性？
考题
填空题在玻璃衬底上制备透明导电膜的方法有：（）、涂覆法、浸渍法、化学气相沉淀法、真空蒸发法、溅射法等。
考题
判断题离子溅射镀膜与离子镀过程原理是一样的。A
对B
错
考题
单选题离子束加工技术利用注入效应加工的是（）A
离子束刻蚀B
溅射镀膜C
离子镀D
离子注入
考题
单选题镜片表面镀加硬膜层时，镜片从涂膜液中提取后下一步进行（）。A
正离子轰击溅射镀膜B
冷却C
在100℃左右的烘箱中聚合4～5小时D
进行凝胶化处理
